|全球近40国“入局”！中国已购买700台光刻机，美国限制无效

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光刻机，是整个芯片生产制造环节最核心的设备，研发难度极高。在全球光刻机市场，日本的尼康、佳能和荷兰的ASML ，便占据了市场90%以上的份额，而最高级的EUV（极紫外光）技术，更是只有ASML一家掌握。这便造就了一个不可忽视的现实——由于尚不可实现国产替代， EUV光刻机已成为我国国产芯片制程迈向国际领先水平的关键制约因素。
近40个国家“入局” ，光刻机研发难度堪比原子弹！
也许有人会说，既然是制约因素，尽力攻破不就可以了？但在高科技的研发竞争中，没有近路可抄，更没有弯道超车。在探讨中国离国产EUV光刻机还有多远时，先来了解一下EUV光刻机的研发难度。
据悉， EUV光刻机是光刻机在发展过程中的第五代产品，由于采用了极紫外线，它的最小工业节点到了22nm-7nm ，称得上是世界上最先进的光刻机设备，其技术的复杂和高难度，贯穿了基础研究、技术攻关和系统集成，真正的一条路难到底。
就连光刻机巨头ASML ，也在技术攻关的路上，先后遇到光源、抗蚀剂和防护膜三大难题。更令研发人员头疼的是，在EUV光刻机的研发过程中，过去的技术积累在这些难题面前很难派上用场，一切都需从零开始。不夸张地说， EUV光刻技术的研发难度从某些角度来看，已超过了原子弹。

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技术上宛如攀登高峰，研发费用也十分昂贵。根据ASML公开的数据，按照每台EUV光刻机售价1.25亿美元来计算，该公司每年最多销售100台，销售额最多125亿美元，然而近20年来， EUV光刻技术的研发总费用总已超千亿元。
总的来说，攻克EUV光刻机的难度系数极高，虽然近20年来，包括美国、欧洲、日本及韩国在内近40个国家都已“入局” ，想要占领EUV光刻技术这个芯片制造环节的制高点，但截至目前，只有美国稍稍领先。
不受美国限制！中国已购700台光刻机
回归到中国攻克光刻机的问题上，虽起步较晚，但国产光刻机的进程已在逐步推进。相关媒体还报道称，在2021年，上海微电子便有望交付首台28nm光刻机，若事件属实，我国对进口光刻机的依赖将逐渐减少，国产芯片的制造也将被大大推动。
企业在努力，国家层面也在发力。早在2008年，我国便已开始攻关国产光刻机，为此还成立了“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项”（简称02专项），投入了大量的人力物力；到了2020年9月16日，中科院还表示，将对光刻机及一些关键的核心技术、关键原材料等进行布局，集中全院力量来攻克这些目前最受关注的重点技术。
可以说，虽然国内的芯片生产暂时仍需向ASML购买光刻机，但国产光刻机也在不停追赶中。

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值得一提的是，早2018年初，中芯国际便向ASML订购了一台EUV光刻机，按照计划， 2019年年底便需交付， 2020年便可完成安装，然而由于美国的阻挠，这台EUV光刻机至今依旧是“未出库”状态。
幸运的是，虽然EUV光刻机“禁售” ，但DUV光刻机的对华出口并不受限，据了解， DUV光刻机可生产7nm及以上制程芯片，可满足现阶段国内企业芯片生产的需求。根据ASML全球副总裁沈波透露：截至当前，中国已经购买了700多台ASML光刻机的装机；2020年二、三季度， ASML发往中国的光刻机台数也超过了全球总台数的20% 。
ASML方面还表示，中国将成为全球最大的成熟制程芯片市场，该公司将加快在中国市场的投资布局，运用领先的光刻技术帮助中国客户提高芯片制造性能、降低成本。分页标题
【|全球近40国“入局”！中国已购买700台光刻机，美国限制无效】文 | 李银苏题 | 黄紫镓图 | 饶建宁审 | 刘苏林