中国突破微纳加工技术，或将改变芯片制造工艺，不再为光刻困扰近期

【中国突破微纳加工技术，或将改变芯片制造工艺，不再为光刻困扰】近期，国内著名学府西湖大学传来一个好消息。研发团队成功突破“冰刻”三维微纳加工技术，取得了一系列重要的研究成果。西湖大学在“冰刻”领域的突破，为未来“冰刻”技术取代“光刻”技术奠定了理论试验基础。随着“冰刻”技术的不断发展，依托该技术生产出来的“冰刻机”或将改变芯片制造工艺，未来有望取代目前市面上的光刻机设备。

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“光刻”与“冰刻”两者有很大的不同，前者是指在光照作用下，借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到基片上。而“冰刻”技术虽然仍旧属于电子书光刻技术，但它与传统工艺有着很大的不同，是将光刻胶换成了零下140摄氏度左右的冰膜。当电子束打在冰层上后，冰会气化，这样就能直接雕刻出冰模板。由于水蒸气可以包裹任意形状的表面，使得在脆弱材料上的加工成为可能，因此“冰刻”技术在未来有着很大的发展前景。

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早在2012年，西湖大学就已经开始了对于“冰刻”技术的研究。在2018年，西湖大学研制制造出了世界首台“冰刻”系统。在近期，科研团队在2018年的研究成果基础上，在仅有头发丝八分之一的光纤末端，运用“冰刻”技术成功雕刻了上百件作品，成功的掌握了精准控制“冰刻”力度的技术。未来随着技术的发展，西湖大学有望研发出可以投入商用的“冰刻机” 。届时，中国将实现弯道超车，彻底摆脱被“光刻机”卡脖子的现状。

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近些年，美国动用国家力量打压华为等国内高科技企业，正是通过芯片来做到一击即中。位列中国第二大的通讯设备公司中兴，在面对美国的打压时毫无还手之力。华为虽然屹立不倒，但在美国的打压下还是受到了很大的影响。究其根本，中国正是缺乏“光刻机”这样的重要技术，这甚至成为中国能否制造出高端芯片的关键设备。

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西湖大学在“冰刻”技术的突破，为国产芯片带来了新的希望。虽然从现实角度来看，离生产出商用的“冰刻机”还有很长的一段路要走，但西湖大学已经用实际行动表明，凭借着中国人的聪明才智与艰苦奋斗，我们也可以研发出别国不具备的先进技术。 “光刻”技术虽然暂时被西方国家封锁，但通过中国人民的努力，该技术迟早也会被中国企业成功突破。
编辑：嘤仔