光刻机|避开顶级光刻机！中国量子芯片突破，13nm技术领先国际近年来

近年来，我国的经济实力不断提升，同时在前沿科技领域也获得不少的突破，比如5G ，知名中国科技公司华为就掌握着3300余项专利技术，排名世界第一。
但是目前还有许多科技技术一直被西方国家所主导，尤其是在芯片方面，美国和欧洲等国家几乎垄断了所有核心专利。

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其实目前国内的芯片设计水平并不逊色于国外，华为和联发科都是著名的芯片设计公司，但是芯片制造，却是国内企业目前急需攻克的难题。
举个简单的例子，光刻机是芯片制造程序中必不可少的设备，其被称为是人类制造最顶尖的机器，而中国厂商制造的光刻机精确度远远落后于海外企业。

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目前全球只有荷兰ASML公司能制造最先进的光刻机，而中国想要获得ASML公司光刻机并不容易，暂且不说，美国对中国制定的芯片规则，单单《瓦森纳协议》， ASML都无法向国内出口高端光刻机。
当然，中科院也将光刻机加入重点研究的项目，但要明白的是，研发光刻机并非一朝一夕的事情，需要长期的技术积累才能完成。

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所以，为了避开光刻机对国内芯片的影响，中国开始转变方向，在量子芯片领域寻求突破，并且近几年中国在此方面取得了非常大的收获。
近日，国际顶级学术期刊《自然》发表了一篇论文，南方科技大学的贺煜团队创造性地采用扫描隧道显微镜技术，成功的构建了13nm的磷原子量子芯片，让国内硅基量子芯片在制造技术方面迈出了重要的一步。

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中国在量子技术方面的突破，这是一个里程碑的进展，虽然目前量子计算处在产业发展的初期，但各国都在攻克量子芯片的难题，比如谷歌，都希望占领量子芯片试产的先机。不过，目前来看，我国已经在量子芯片领域处于国际领跑的水平。

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据了解， 13nm的量子芯片并不算是最顶尖，但有一个明显的优势，那就保证性能的同时，不需要重新建立一套制造方案。这也就意味着，直接用现成的光刻机和刻蚀机便能生产13nm量子芯片，也能让中国成功避开先进的光刻机。

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如今我国不管是光刻机，还是量子芯片与量子计算机，都取得重大突破，未来，国产芯片势必会弯道超车，打破海外的技术封锁。
文/球子
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