[小小天看世界]成本大幅降低，别再等EUV光刻机了！中芯国际N+1工艺计划投产别再等EUV光刻机了！中芯国际N+1工艺计

别再等EUV光刻机了！中芯国际N+1工艺计划投产，成本大幅降低！据悉，在今年的3月6日，我国中芯国际公司向荷兰ASML公司订购的光刻机终于抵达位于深圳的厂区，然而，这次光刻机虽然是来了，但依然不是我们心心念念的那个EUV光刻机，很多人认为，没有EUV光刻机，我国就无法突破最新的芯片工艺，如果大家还抱着这个想法，那就是大错特错了，实际上，我们现在完全不用去等中芯国际向我们“施舍”EUV光刻机，因为中芯国际已经研发出了全新的工艺。

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早在去年年底，中芯国际CEO梁孟松就对外透露，目前中芯国际已经成熟地掌握14nmFinFET制程工艺，并开始计划14nm中端芯片的量产，此外，梁孟松还透露中芯国际最新研发出了N+1和N+2工艺，这两种工艺非常接近目前最为流行的7nm工艺，其中N+1工艺计划于2020年正式投产，这个消息无疑像一枚重磅炸弹掀翻了我国半导体行业。
据悉，中芯国际最新研发的N+1工艺相比自家研发的14nm工艺成本更低，而且最重要的是，这种工艺无需光刻机就能够生产出7nm芯片！梁孟松表示，相比上代芯片工艺， N+1工艺生产出的芯片在性能上有着20%的提升，同时，功耗更是得到了大幅下降，不仅如此， SoC面积和逻辑面积更是减半，这也就也意味着，中芯国际的N+1工艺其实完全可以媲美台积电的7nm工艺，只是在性能上还差一丢丢。

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近日，中芯国际又宣布N+1工艺在不久后将正式投产，这种工艺能够以更低的成本制造出更优良的芯片，另外，由于成本降低，搭载N+1工艺芯片的手机或将成为新一代的“性价比之王” 。此外，中芯国际负责人表示该公司目前还在大力攻克N+2工艺技术上的难题，一旦成功，这种工艺几乎可以和7nmEUV工艺平起平坐，甚至说可以占到10%的优势。

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【[小小天看世界]成本大幅降低，别再等EUV光刻机了！中芯国际N+1工艺计划投产】梁孟松还透露，虽然N+1工艺没有用到ASML的极紫外光刻机，也无需进口任何昂贵设备，但N+2工艺还是需要EUV光刻机进行技术支持的。中芯国际目前正计划先逐步完善N+1技术，然后再进一步探索N+2技术，另外，中芯国际目前还在与ASML公司进行商谈，并有望拿到真正的EUV光刻机。