芯智讯|年底有望小批量试产,中芯国际:N+1工艺已进入客户导入阶段

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在此前公布的2020年上半年财报当中 , 中芯国际就曾表示 , 第二代先进工艺(N+1)进展顺利 , 已进入客户产品验证阶段 。
近日有报道称 , 在大规模量产14nm工艺后 , 中芯国际的N+1代工艺已经进入客户导入阶段 , 有望于2021年进入量产 。
对此 , 中芯国际回应称 , 该公司的第一代FinFET14nm工艺已于2019年第四季度量产 , 第二代FinFETN+1工艺已经进入客户导入阶段 , 有望于2020年底小批量试产 。
按照这样的时间表推测 , 如果顺利的话 , 中芯国际N+1工艺确实可能会在2021年规模量产 。
N+1是中芯国际对其第二代先进工艺的代号 , 但中芯国际并未透露具体的数字节点 。 根据中芯国际联席CEO梁孟松博公布的信息显示 , 的N+1工艺和现有的14nm工艺相比 , 性能提升了20% , 功耗降低了57% , 逻辑面积缩小了63% , SoC面积减少了55% 。 从逻辑面积缩小的数据来看 , 与7nm工艺相近 。
梁孟松博士也表示 , N+1代工艺在功耗及稳定性上跟7nm工艺非常相似 , 但性能要低一些(业界标准是提升35%) , 所以中芯国际的N+1工艺主要面向低功耗应用的 。 而在N+1之后 , 中芯国际还会有N+2 , 这两种工艺在功耗上表现差不多 , 区别在于性能及成本 , N+2显然是面向高性能的 , 成本也会增加 。
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