asml|中科院再立功，这次是高端光刻机，ASML的担忧或成现实芯片|石墨烯|it芯片

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近些年，我国在高科技领域实现了快速崛起，航天、通信等多方面都跻身到了国际一流水平，然而，高速发展的姿态深深地触及了西方科技大国的“敏感神经” ，尤其是美国，为了巩固其科技霸主的地位，便对华为等中企实施了芯片禁令，妄图以此来遏制我们的发展。
由于台积电这样的代工巨头，高通、英特尔这样的IC巨头、荷兰ASML这样的光刻巨头，都在不同程度上被限制了向我国市场出口，因此，我们若想突破芯片封锁，就只剩下了自主研发这一条路可走。
在芯片国产化的道路上，国家制定了两条腿走路的策略，一方面是在传统芯片即将达到物理极限的情况下，发力研发新型芯片；另一方面是在传统芯片领域进行追赶，从设备、材料、技术等三个层面进行破冰，从而摆脱芯片产业对海外的依赖。
在新型芯片的研发上，中科院做出了表率，自研的8英寸石墨烯晶圆在国际石墨烯创新大会上，得到了海内外媒体以及科学家们的高度认可。石墨烯作碳基芯片的原材料，其重要性不言而喻，而中科院的8英寸石墨烯晶圆不管是尺寸或者性能，都属国际顶尖水平。
正如外媒所说，在碳基领域，中国已经迈出了坚实的一步，至少领先全球五年。
而近日，国内再次传出好消息，这次是关于高端光刻机，中科院再次立功。
据媒体报道，中科院旗下的上海光学高端机械研究所，简称“光机所” ，近期在计算光刻研发上取得了巨大的进展。
“光机所”提出的OPC修正技术（Optical proximity correction OPC），可以在EUV光刻设备硬件不变的情况下，优化照明系统与检测功能，从而进一步提升光刻设备的分辨率。
利用这项技术可以生产出比3nm精度更高的芯片，从芯片工艺的迭代上来看，摩尔定律的延续或将因此在中国实现。
对于我国在高端光刻领域取得的成果，最为之紧张的莫过于荷兰光刻巨头ASML了，尽管暂时ASML在老美的出口管制规则下无法出口EUV给我们，但它却先后多次示好我国市场，这却恰恰反应出了它的担忧。
我国作为全球最大的半导体消费市场，对光刻设备的采购量超过了其他任一个国家，如果我们实现了EUV的国产化，那么ASML就将失去唯一性，更关键的是，我们将会自此成为它的最大竞争对手。
以“中国制造”高质量、低价格的产品特性来看， ASML面对我们这个竞争对手并没有多大的优势，它在光刻市场的地位也必将因此而受到巨大的冲击。
这也就不难理解，在我国决定自研光刻机之时， ASML为何会泼来冷水表示：即便给中国图纸，他们也造不出来。事实是， ASML从未把EUV核心制造图纸交给我们，而且它怎么会不知道“再尖端的设备也是人造的而非神造的” ，只不过是想通过这种方式让我们知难而退罢了。
然而，面对老美无底线的封锁，我们无暇顾及这些倾向于中国市场的美系企业的利益，毕竟是它们无法及时提供给我们所需的半导体设备。因此，我们在自主研发的同时，或将给它们带来的“误伤”完全是老美的问题。
【asml|中科院再立功，这次是高端光刻机，ASML的担忧或成现实】目前国产芯片产业在中低端领域已站稳了脚跟，正在向高端领域发起冲击，而且清华大学等高校的科研团队在EUV领域也已取得了不小的研发成果，随着时间的推进， ASML的担忧或将成为现实。