中芯国际喜讯不断，国产7nm芯片获得突破，14nm也突破大关点击关注

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导读：中芯国际喜讯不断，国产7nm芯片获得突破， 14nm也突破大关！
众所周知，半导体芯片对于现代科技发展而言，无疑是十分重要的；特别是智能手机的快速发展和普及，让芯片市场的发展也迎来了大爆发，而现在的智能手机也十分的依赖于半导体芯片，离开了手机芯片的支持，我们的手机甚至都无法开机，正是因为芯片如此的重要，所以我们也必须要加大芯片的自主研发力度才行！
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一直以来，国产芯片的发展都比较落后，而国产科技企业生产所需的芯片也几乎都是依赖于从国外进口而来，这就造成国产科技企业的发展很容易受制于人；而华为被打压以后，台积电就不再给华为生产海思麒麟芯片了，这也让华为的芯片成为了绝唱，而华为mate40所搭载的麒麟9000芯片也将是最后一代国产芯片，所以国产科技企业想要不受制于人，就必须要拥有我们本土的芯片产业链才行！
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随着国产科技企业的不断努力，我国的芯片巨头企业中芯国际也传来了一大消息，中国7nm芯片正在与高通等国际芯片水平缩小差距，而14nm的芯片生产工艺也再一次的突破量产的大关；据悉，中芯国际的14nm工艺芯片良品率已经达到行业标准，这也就意味着中芯国际所生产的芯片良品率已经达到了95% 。而目前全球掌握了14 nm工艺节点的只有台积电、英特尔和三星这几家芯片巨头企业，而中芯国际的14nm工艺良品率已经达到了业界的生产水平，这也让中芯国际在14nm芯片工艺上再次突破大关！
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除此以外，中芯国际还在7nm芯片领域进行研发；目前在7nm以下芯片生产中，荷兰ASML公司所生产的EUV光刻机是不可缺少的设备，由于产能有限，所以EUV光刻机的订单也早已经被台积电和三星所抢购一空，目前 ASML确认了2020年到2021年的生产订单都被台积电所拿下，为了实现更先进芯片工艺技术的突破，中芯国际如今正在实施N+1、 N+2工艺发展战略，以赶超7nm制程工艺。其中， N+1工艺也是经过了多次的优化，其生产的芯片几乎已经能和7nm芯片的性能相匹敌了！
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中芯国际的N+1工艺主要面向低能耗应用领域，而这一工艺在7nm和14nm芯片方面都领先于其他公司。而中芯国际的N+2工艺将会在2021年推出，到时候可以满足一些高性能应用的需求。在目前的这种情况下，中芯国际还能不断传来喜讯，可以说也是很值得我们骄傲的，而中芯国际的N+1和 N+2代工艺都不会采用EUV工艺，直到设备准备就绪，才会采用 EUV光刻工艺。
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【中芯国际喜讯不断，国产7nm芯片获得突破，14nm也突破大关】可以说，中国芯片行业的发展潜力完全是被激发的，随着科技的不断发展，我们对半导体芯片的需求不断的加大，实现芯片的自主化生产也是必须要走的一步路，而想要拥有自己的芯片产业链，并将其发展成熟，中国芯片企业的任务还任重而道远，不知道你看好中国芯片产业的发展吗？欢迎留言发表你的看法！