刻蚀机|领先全球的中国巨头，不仅造出刻蚀机，还推出制造LED的关键设备 |中微半导体|

在芯片制造中，光刻机是这一过程中所需的关键性设备，被誉为“现代工业的结晶” 。而除光刻机之外，刻蚀机也有着举足轻重的作用，与光刻机同等重要，而且，在中微半导体的努力下，我国已经成功打破了海外企业在刻蚀机领域的技术封锁。

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据公开资料显示：中微半导体于2004年成立，创始人为半导体领域的大拿——尹志尧。尹志尧曾于Lam、应用材料有过数十年的工作经历，二者均为刻蚀机领域顶尖的企业。因此，在尹志尧的带领下，中微半导体的刻蚀机业务迅速崛起，仅用时三年推出首台CCP刻蚀设备。

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中微半导体从65nm刻蚀机做起，不断对业界一流技术发起冲击，在2019年，成功突破5nm技术，顺利交付了5nm刻蚀机。如今，中微半导体在中国刻蚀机市场上的占比已经高达80% ，突破海外的垄断，就连全球芯片代工巨头——台积电，也采用了中微半导体的刻蚀机。

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当前，中微半导体已经成为我国唯一的刻蚀机巨头，据悉，其一台刻蚀机的价格已经卖到了2000万元。而除刻蚀机之外，中微半导体还于LED设备领域有着十分亮眼的表现。刻蚀设备、MOCVD设备与环保设备，是中微半导体的三大主营业务。近日，中微半导体成功推出Prismo HiT3TM MOCVD设备，引起业界的关注。

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该设备主要用于深紫外LED的量产，有着重要的作用。据了解， LED深紫外光主要用于医疗、科研设备等重要领域，其可以通过对于细菌与病毒DNA的破坏，来使其失去繁殖能力，从而起到消毒杀菌的作用。本次中微半导体的Prismo HiT3TM设备有着许多突出的表现。

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其反应腔中最高能实现1400度的最高温度，并且，还具有工艺重复性、均匀性以及低缺陷性等优点。中微半导体的Prismo HiT3TM设备，是高质量氮化铝与高铝组分材料生长的关键设备，其显示出了中微于LED关键设备领域的卓越表现。中微半导体已经成为了领先全球的中国巨头。
【刻蚀机|领先全球的中国巨头，不仅造出刻蚀机，还推出制造LED的关键设备】

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在2019年，中微半导体的净利润同比增长率高达107.51% ，而在第一季度，仍有89.47%的超高同比增长率。在该季度，其净利润增长至2622万元，表现优异。接下来，中微半导体还将继续于刻蚀机、MOCVD设备等领域继续发光发热，十分令人期待。
文/BU 审核/有鱼