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【光刻机|中国光刻机技术已经成功突破7nm？荷兰30年垄断被几年时间攻破】

华为被打压 ， 芯片断供 ， 让国人重新认识了芯片 ， 知道了光刻机 ， 中国此前也研发高端芯片 ， 不过核心技术一直无法突破！当中科院宣布把别人卡脖子的清单变成我们的任务清单之后 ， 引起了很大的反响 ， 如今中国光刻机技术已经成功突破7nm 。 荷兰表示我们长达三十年苦心研制的高精尖技术 ， 被中国花费几年就突破了 。

中芯国际使用DUV光刻机和自研的N+1技术实现了准7nm芯片制造 。 荷兰asml从上世纪90年代便开始研发EUV光刻机 ， 计划04年能完成 ， 结果到了10年才有了初步的原型机 ， 16年才正式的完成销售供货 ， 19年生产出的7nmEUV芯片正式商用 。 也就是说 ， asml的EUV光刻机从研发到全面的商用用了近30年的时间 。 所以说 ， 我们的EUV光刻机之路还是任重道远的 。 不过没关系 ， 路一步一步走 ， 饭一口一口吃 ， 我国先从DUV开始 ， 一步步成长为了现在的高精度的EUV 。

自从美国对华为实施禁令之后 ， 芯片国产化被提上日程 ， 光刻机就是重中之重 。 目前在40nm技术上完全国产化 ， 接下来的12nm、7nm也水到渠成 。 我国本来就能生产光刻机 ， 上海微电子很早之前就能做40nm光刻机 ， 只是由于国外对关键零部件禁运 ， 很多年没有技术进步了 。 现在国家牵头 ， 就是集中全国力量对先进光刻机进行攻克 ， 计划是试产193nm光源的步进扫描投影光刻机 ， 通过多次曝光 ， 有做7nm芯片的潜力 。
光刻机原理就是照相机 ， 对系统整合能力要求很高 ， 只有大型卫星能与之比 。 其中所需高端光源和双工作台都有出来 ， 中国卫星人才那么多 ， 整合众多厂家和院校集中力量办大事 ， 通过国内广大科技工作者的不断艰辛探索和努力研发 ， 几年之内就可以生产出性能超越荷兰的高端光刻机 。 荷兰的asml就是整合了世界供应商 ， 德国的蔡司镜头和操作台技术 ， 美国的激光技术 ， 另外还有几家欧洲企业 。 中国宇航领域的企业就非常适合 ， 制造卫星的经验和管理项目都非常成功 。

但我国光刻机需要很多投入 ， 积累很多经验 ， 才能达到台积电和三星的5纳米工艺 ， 并不容易 。 半导体制造是很辛苦的工作， 要求极高 。 不过只要有了7纳米光刻机 ， 我国的高端芯片很快就能实现自产 ， 再也不怕美国打压 。 到那时 ， 不再需要荷兰的光刻机了 ， 受制于人的时代结束了 ， 终于迎来了中国光刻机的大发展 。
我国很多关键技术现在在做的都是去美国化 ， 实现纯自产 ， 我们现在做的不光是光刻机和芯片 ， 而是技术个人才 ， 经验 。 只有有足够多人才参与 ， 才能够积累更多的技术经验 ， 材料工艺才能够突破进展 。 在我们国内半导体行业人才缺口还是比较大的 。 人才培养对于技术发展来说至关重要 ， 没了人才再多资金也是打水漂 。 （文/山峰）

来源：(迷彩虎)

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标题：光刻机|中国光刻机技术已经成功突破7nm？荷兰30年垄断被几年时间攻破