文章图片



文章图片



文章图片


随着国产科技实力的不断提升 ， 不管是5G通讯领域 ， 还是在全球智能手机领域 ， 中国电信巨头华为可谓是一路凯歌 ， 不仅在5G领域拿下了5G专利榜第一名 ， 智能手机领域超越了苹果 ， 成为了全球第二大手机企业 ， 更重要的是 ， 华为在半导体领域的影响力正在威胁着美国半导体霸主的地位 。

变幻莫测的国际环境 ， 美国开始对华为、国产芯片企业进行技术封锁 ， 华为芯片供应链被切断 ， 国产芯片巨头中芯也被“断粮” ， 高端芯片制造能力的不足 ， 让我们尝到了什么是“剔骨之痛”！然而 ， 想要解决高端芯片制造问题 ， 一方面要打破由西方国家主导的高端极紫外光光刻机的壁垒 ， 另一方面要解决光刻材料光刻胶 。

与我们平时所用到的胶水不同 ， 光刻胶对感光性 ， 抗蚀性、粘附性 ， 表面张力等要求非常高 。 芯片制造过程中 ， 光刻机将光刻胶均匀涂抹在晶片上 ， 再用光源对晶片进行“照射” ， 将电路照射到晶片上 ， 由于光刻胶对光源的敏感性 ， 就形成了设计好的电路形状的模具 ， 再经蚀刻、清洗最后形成芯片 。

芯片制造新技术而在这些过程中 ， 光刻胶直接影响着芯片的光刻精度 ， 更重要的是 ， 在光刻胶领域 ， 日本、美国、德国近乎垄断了全球90%的市场份额 ， 光刻胶也是阻止高端芯片制造“国产化”的一个壁垒 。
面对西方对高端芯片垄断 ， 浙江西湖高等研究院传来消息 ， 曝光了比肩光刻技术的“冰刻”技术 。

冰刻 ， 这是西湖大学副校长仇旻教授从2012年从海外回国后就开始开启的一项基础科学研究计划 。 与光刻机不同 ， 冰刻的做法是在-140°密闭真空的环境下 ， 通过水蒸气低温结冰的特性 ， 迅速在晶片上形成冰膜 ， 然后用电子束在冰膜上进行刻录 ， 形成三维电路结构 ， 之后在进行填充 ， 常温下冰干后自动挥发 。

据消息称 ， 目前国产冰刻技术已经能在光纤末端做出复杂的微纳米冰雕 ， 并且“产能”非常理想 。 不难发现 ， “冰刻机”完全有希望取代传统的“光刻机” 。
冰刻技术有什么优势？冰刻技术的曝光 ， 不少网友必然会拿冰刻机与光刻机进行对比 ， 究竟冰刻机有什么优势？
首先 ， 光刻芯片制造 ， 需要将光刻胶均匀地涂抹在晶片上 ， 不管是光刻胶质量 ， 还是晶圆的质量 ， 都影响到了芯片制造精度 ， 完成后还需要除胶 ， 而冰刻技术则不用考虑这一系列的问题 。
其次 ， 电子束与极紫外光相比 ， 加工精度更高 ， 效率也更高 ， 芯片的集成度也更高 ， 性能也更强 。
【芯片|取代光刻机？芯片制造“新技术”曝光，国产芯转机出现！】
冰刻技术 ， 对推动国产高端芯片技术的制造起到了重要推动作用 ， 也是为了应对高端芯片垄断 ， 为未来取代光刻机迈出的一大步！这对于陷入“芯片危机”的华为来说 ， 也可能将迎来转机？
千里之行始于足下 ， 任何重大核心技术的突破 ， 都是建立在许多重要的基础科研之上 ， 而打破高端芯片、光刻机的垄断 ， 我们一直没有停止前进的脚步！

来源：(一个有灵魂的作者)

【】网址：/a/2021/0130/kd661220.html

标题：芯片|取代光刻机？芯片制造“新技术”曝光，国产芯转机出现！