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如果说在芯片领域 ， 什么最牵动我们的心 ， 那一定是光刻机 。 因为光刻机是半导体制造中最重要的设备 ， 但我们的技术却落后太远 ， 还停留在90nm ， ASML已进入了5nm ， 完全不是一个级别的 。
更关键的是 ， 先进的EUV光刻机 ， 是进入7nm工艺必须的设备 ， 我们根本买不到 ， 自己又研发不出来 ， 导致先进的芯片制造技术 ， 我们实现不了 ， 缺光刻机 。

那么怎么办？近日网传哈工大 ， 哈工大正在研发EUV光刻机 ， 而重要的光源部分 ， 采用的是DPP-EUV光源 ， 同时中科院长春光机正与哈工大合作 ， 基于DPP-EUV光源研EUV曝光机 ， 预计2年内可以推出 。
至于EUV光刻机中所需要的透镜及曝光系统 ， 长春光机早有突破 ， 双方的合作顺理成章 ， 且非常具有实操性 。
【光刻机|网传哈工大研发EUV光刻机，与ASML技术一致，预计2年推出】
当然 ， 目前不管是哈工大 ， 还是长春光机并没有正面回应此事 ， 但哈工大在精密加工 ， 超精密测量领域 ， 早已有了几十年的积累 ， 所以看起来可信度还是非常高的 。
事实上在EUV光刻机领域 ， 有两种光源 ， 一种是DPP-EUV也就是通过放电激发等离子体产生极紫外线光源 ， 一种是LPP ， 原理是利用高功率激光加热负载(Xe或Sn)形成等离子体 ， 等离子体辐射出紫外线 。

目前ASML的光刻机采用的是DPP-EUV技术 ， 而哈工大据称这两种技术早在10多年前就有研究 ， 而现在主要研究DPP-EUV技术 ， 因为这种技术能量转换高 ， 造价相比较低 ， 复相对而言没那么复杂 。
不过 ， 现在还只是传闻 ， 真真假假 ， 假假真真 ， 谁也不清楚 ， 但如果真的是这样的话 ， 有了这些一流的科研机构、大学参与 ， 相比于纯粹的企业研发 ， 可行性还是会更高的 ， 同时进度也会更快的 ， 你觉得呢？所以就让我们拭目以待吧 。

来源：(互联网乱侃秀)

【】网址：/a/2021/0201/kd665473.html

标题：光刻机|网传哈工大研发EUV光刻机，与ASML技术一致，预计2年推出