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光刻机|重磅!哈工大EUV光刻机研发成功!对标ASML公司或将两年内下线!



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光刻机|重磅!哈工大EUV光刻机研发成功!对标ASML公司或将两年内下线!

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光刻机|重磅!哈工大EUV光刻机研发成功!对标ASML公司或将两年内下线!

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随着美国新一届拜登政府的上台 , 中美两国未来四年的发展会如何相比都是大家十分关心的话题 , 但是小编更加关心的是新一届拜登政府会不会放宽此前对华为公司的禁令 , 毕竟在美对华为实施芯片制裁后华为无芯可用的现实让其销量很快出现下滑 , 华为最大的业务来源受到致命打击 , 而华为不能倒下 。

芯的制造一直以来都是各国争相突破的关键技术 , 现在全球最先进的芯片制造机器 , 也就是光刻机是被荷兰的ASML公司所垄断 , 已经成功量产5nm级别芯片 , 而我们国产最先进的芯片才只有90nm , 可见其巨大差距 。

很早前 , 我国就向ASML公司订购了一台7nm级别的EUV光刻机 , 但是由于美国的施压 , 至今我们也还是“未收货”状态 , 技术的突破不是靠嘴说出来、也不是靠脑子想出来的 , 而是要真真切切地干出来的 。

但是好在中国有一代又一代矢志报国的仁人志士 , 这不据说哈工大目前在研发光刻机上已经突破了最主要的光源部分技术 , 技术所采用的是自研的DPP-EUV光源 , 而中科院也正在同哈工大进行密切合作 , 光源问题一解决 , 后期的一些问题就不会太大了 , 哈工大保守估计会在2023年 , 也就是两年内正式下线改型光刻机 。

之前国外流传着一种说法 , 说ASML公司就算把全部EUV光刻机的图纸都给中国 , 中国也不可能造出EUV光刻机来 , 那么当年开始建港珠澳大桥需要沉箱技术时欧洲人也是这么说的 , 后来呢?港珠澳大桥所有技术都是中国制造!一举建成为世界上最长、难度系数最高的跨海大桥 。 中国在科技上的进步速度远远超过了所有人的预料 , 包括我们自己 。 现在不论国内还是国外 , 所有学者和战略家们都很难高强出中国实际的发展状况是什么样的 。 而更让他们担心的是在这飞快的进步背后 , 我们中国的潜力到底有多少 , 会不会在未来几年内彻底改变美国的科技霸主的地位 , 谁也不知道 。

但是我们现在看到的是哈工大突破了最核心的光源部分技术 , 并且要知道在超精密测量方面、在控制上哈工大的技术积累是非常厉害的 。 中国的科技发展将在未来5年之内全面居于世界领先地位 , 太多的实践证明我们只用了五年的时候就研发出来了别人数十年甚至更久才研发出来的东西 , 而我们现在要做的 , 也必须要做到的就是创造出越来越多的原创性的科技成果 , 让世界“睁眼看中国” , 也让我们“睁眼看世界” 。

随着我国人口和市场规模的绝对压倒性优势的不断显现 , 未来我们到底能否制造出光刻机 , 哈工大的光刻机能否下线 , 小编相信一切都只是时间问题 , 中华民族走向伟大复兴的坚实步伐永远不会停止!中华民族也必将走向复兴!


    来源:(槽话淡)

    【】网址:/a/2021/0204/kd680705.html

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