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工业皇冠上的明珠-光刻机光刻机被称为工业皇冠上的明珠 ， 其中目前最高端的EUV光刻机在国产科技与西方的博弈中扮演了重要的角色 ， 是高端芯片制造的核心设备 ， 但基础技术却被美国掌握 ， 使我们一机难求 ， 在美国擅自修改芯片行业规则之后 ， 依靠台积电、三星等代工生产的路也被堵死 ， 这导致华为等国产企业一度陷入无高端芯片可用的局面 。
但近些年我国芯片市场的年均进口额却超过了3000亿 ， 是全球之最 ， 急需性可想而知 。 为了解决芯片被“卡脖子”的局面 ， 中科院表示将会布局包括光刻机在内有关芯片制造领域的技术攻关 ， 国产芯片制造企业同时也针对芯片制造工艺开始进行重点研发 。

在芯片制造方面 ， 7nm、5nm工艺属于高端芯片 ， 14nm左右属于中端芯片 ， 28nm以上则属于低端芯片 ， 我国芯片制造产业整体处于中低端水平 ， 最好的中芯国际 ， 虽能够量产14nm芯片 ， 但良品率却难以保证 ， 也全球最先进的台积电和三星依然有不小的差距 。
【芯片|终于突破了！国产芯片传来好消息，无需EUV光刻机】正是认识到了这个不足 ， 中芯国际邀请到了技术大拿蒋尚义的加盟 ， 一方面为了促成与ASML有关EUV光刻机的购买协议；另一方面 ， 则是通过自研来缩小与台积电和三星的技术差距 。

国产芯片传来好消息伴随着芯片国产化浪潮的推进 ， 国内传出好消息 ， 这次终于突破了 。
据业内人士透露 ， 中芯国际通过转换封装技术 ， 使用相对低端的DUV光刻机 ， 实现了7nm芯片的制造 ， 至于最高端的5nm芯片 ， 也已在研发之中 。
要知道 ， DUV光刻机并不在限制范围内 ， ASML也曾表示 ， 将出口大量的DUV光刻机进入中国市场 ， 如此一来 ， 国产7nm芯片将有望实现量产 。

虽然5nm芯片的研发仍需时间 ， 可突破7nm ， 已经能够解决绝大多数国产科技企业的芯片问题了 ， 要知道虽然芯片迭代很快 ， 但7nm以上工艺的中低端芯片仍占市场80%左右的份额 。
在没有EUV光刻机的情况下 ， 中芯国际依然完成7nm芯片的研发 ， 这意味着利用封装技术的转换实现高端芯片制造的办法是可行的 ， 而且目前已经着手对5nm、3nm晶圆制造过程中涉及的多项技术进行科技攻关 。

或许我们真的不再需要EUV光刻机了 ， 之所以这么说 ， 除了国产芯片迎来突破之外 ， 还有一个因为 ， 那就是传统芯片工艺制造水平已经逼近物理极限 ， 按照芯片迭代的速度来看 ， 不久的将来 ， 或许会有新型的半导体材料或者下一代芯片出现 ， 不是传统的硅材料 ， 自然也就用不上EUV光刻机了 。
写在最后不管是中科院研发的8英寸石墨烯晶圆 ， 或是金贤敏带领上海交大科研团队研发的量子芯片 ， 都可能成为国产芯片弯道超车的转折点 。
至于美国拿来遏制我国高科技发展的EUV光刻机 ， 让它见鬼去吧！

来源：(科技小笛)

【】网址：/a/2021/0220/kd724097.html

标题：芯片|终于突破了！国产芯片传来好消息，无需EUV光刻机