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工业皇冠上的明珠-光刻机光刻机是工业皇冠上的明珠 ， 是芯片制造产业链中最关键的设备 。 华为等国产企业之所以会被芯片卡脖子 ， 除了西方的限制手段之外 ， 更重要的原因就是我们制造不出能用于芯片生产的高端EUV光刻机 。
很显然 ， 若想实现高端芯片的自主 ， 那么就必须拿下光刻技术这个难题 。

必须强调的是 ， 光刻机是一项极为复杂且精密的制造仪器 ， 以全球最先进的光刻厂商ASML所生产的EUV光刻机为例 ， 其涵盖了许多国家的核心技术和顶尖零配件 ， 比如德国的蔡司光源、瑞士的数控机床、美国的EDA软件等等 ， 正是由于这个原因 ， ASML才敢放出大话 ， 表示即便给我们图纸 ， 我们也造不出来 。
诚然光刻机的确很难 ， 但任何先进的技术设备都是由人制造的 ， 而非神制造 。

芯片问题刻不容缓 ， 在这种情况下 ， 包括中科院在内的众多顶级科研团队 ， 都入局到光刻设备的研发中来 。 另外 ， 国内相关企业接洽日本老牌光刻巨头佳能和尼康 ， 以技术共享的合作的方式 ， 加速国产高端光刻机的研发脚步 。
我们为光刻技术设备所做的努力有目共睹 ， 果然功夫不负有心人 ， 近日国内传出好消息 ， 事关国产高端光刻机 。
清华大学正式宣布
2月25日 ， 清华大学正式宣布 ， 完成了新型粒子加速器光源的测试 。 据了解 ， 这项重大科研成果是清华工物系在光源“稳态微聚束”的研究中取得的 。
这项光源的波长可以从太赫兹覆盖到极紫外波段 ， 要知道EUV光刻机的另一个名称便是极紫外光刻机 。 光源是其最重要的组成部分之一 ， 也是最尖端的技术之一 ， 突破光源技术意味着我们迈出了成功研发EUV光刻机的关键一大步 ， 而光源的长短和功率则直接决定了光刻工艺水平的精准度 。

虽然这项光源技术还不能立刻进入设备组合阶段 ， 但我们思路已经清晰 ， 完全有理由相信随着进一步的实验和测试 ， 用不了多久 ， 该项科研成果便会成熟的进入工业、商业等应用层次 。
果然被比尔盖茨说中了
我国科研团队在极紫外光源上的突破 ， 是美科技界始料未及的 ， 要知道光刻技术算得上是西方对我们技术限制的最后一道屏障 ， 而且如今距离芯片断供也才半年左右的时间而已 ， 实在是太快了 。

不过 ， 对于被断供芯片后的中国科技的发展势头 ， 比尔盖茨则是早有预言 ， “不卖给华为等中企芯片是不明智的 ， 这是在逼着他们自己造 ， 他们会很快建立自主的半导体产业链 ， 到时候以出口为主的美半导体企业将得不偿失” 。
写在最后【光刻机|关于EUV光刻机，清华大学正式宣布，果然被比尔盖茨说中了】目前 ， 国产科技在摆脱依赖、实现国产化的道路上可谓是多点开花 ， 除了并不遥远的EUV光刻机 ， 还有7nm芯片制造技术、光芯片、光刻胶、EDA软件等等 。 我们的目标只有一个 ， 那就是实现核心技术自主 ， 建立国产化科技的大一统 。

来源：(科技小笛)

【】网址：/a/2021/0228/kd749714.html

标题：光刻机|关于EUV光刻机，清华大学正式宣布，果然被比尔盖茨说中了