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【光刻机|千亿芯片骗局宣告结束！留下三点好处，其一是根本没有7nm光刻机】近两年 ， 由于老美对华为的芯片禁令 ， 让国内认识到芯片国产化替代的重要性 。 因此 ， 国内兴起了“造芯”热潮 ， 大量的资金涌入到芯片行业 ， 并且仅去年就新增半导体相关企业2.28万家 。 然而 ， 在这股热潮下 ， 却有不少泡沫存在！

个别企业以造芯片为名义骗取政府补贴、获取融资 ， 最终因资金链断裂导致项目烂尾 。 近一年来 ， 就有6个百亿级半导体大项目先后停摆 ， 总规划投资规模达2974亿元 ， 如武汉弘芯、成都格芯、南京德科码、陕西坤同、贵州华芯通等！
这其中最大的当属武汉弘芯 ， 总投资额达1280亿元 ， 却最终成了“千亿芯片骗局”！近日 ， 再度传出消息 ， 公司无复工复产计划 ， 将遣散全体员工 。 这个烂尾项目运行三年 ， 最终以这种方式宣告结束 。 不过 ， 还给留下了三点好处 。

第一 ， 引起警醒 ， 杜绝今后芯骗现象
武汉弘芯项目曾一度非常耀眼 ， 公司于2017年11月成立 ， 主攻14纳米逻辑工艺生产线及晶圆级先进封装生产线 ， 请来了台积电创始人张忠谋的左膀右臂、台积电“二号人物”蒋尚义出任CEO ， 还购买了荷兰 ASML公司的光刻机 。
人才、器材、钱财全都到位 ， 貌似进展非常顺利 ， 人们对武汉弘芯可以说是满怀希望 。 然而 ， 最终暴露了真实面目 ， 原来不过是假借造芯片名义来圈钱 。 幸亏及时发现 ， 被武汉政府全盘接管 ， 接下来考虑对接合作 ， 争取实现一定程度的回收利用 。

虽然武汉弘芯半导体宣称总投资超过千亿元 ， 但资金并未全数到位 ， 据说至少拿下超80亿元投资 ， 也只进行了花费占比最小的建厂工程 ， 也就是说没有骗多少就暴露了 。 但武汉弘芯骗局非常值得我们警醒 ， 可以说给我们上了大大的一课！
自此之后 ， 国家开始严控半导体制造的投资项目 ， 必须确认项目的资金到位 ， 并且拥有相应产品技术后 ， 才允许项目开始建设和找人才 ， 确保今后不会再发生类似芯片项目烂尾事件 。 武汉弘芯事件的好处之一 ， 就是正式宣告了半导体烂尾结束了！

第二 ， 请来人才 ， 利于中芯国际发展
武汉弘芯事件的好处之二 ， 就是于2019年重金请来了芯片界传奇人物、台积电功勋重臣蒋尚义来担任CEO 。 蒋尚义可是名副其实的“芯片行业大牛” ， 在台积电任职多年 ， 打造出世界级研发团队 ， 引领台积电从技术追随者为技术领导者！
蒋尚义在半导体业界资历超过四十年 ， 在台积电参与了从微米制程到 20 纳米甚至 16 纳米 FinFET 等重要制程节点 。 因此 ， 蒋尚义的加盟 ， 在当时引起了不小的轰动 ， 他除了带来了许多台积电的老员工 ， 也吸引来了不少颇具实力的半导体工程师 。

然而 ， 最终却让蒋尚义非常失望 ， 他表示在武汉弘芯时期“是段令人难受的经历”！因此 ， 他于去年6月就向公司递交了书面辞职 ， 不再参与弘芯任何项目运营 。 半年后 ， 蒋尚义加入中芯国际担任副董 ， 原来跟随的不少工程师也选择加入中芯 。
人才对于芯片制造行业至关重要 ， 尤其是这些从事过、有经验的高级人才 。 武汉弘芯请的这些人才 ， 正好为中芯国际所用 ， 有利于更好发展 。 并且蒋尚义还将给中芯带来他擅长的芯片先进封装技术 ， 还就EUV光刻机再次牵线跟荷兰ASML沟通 。

第三 ， 正确认识 ， 根本没7nm光刻机
最近 ， 网上正在盛传 ， 武汉弘芯烂尾事件可惜了那台7nm光刻机 ， 号称是“国内唯一能生产7nm芯片”设备 。 当时武汉弘芯还专门举行了首台高端光刻机设备进厂仪式 ， 后来被为获利5.8亿元贷款 ， 将这台ASML 光刻机抵押给武汉农村商业银行 。
然而 ， 我们大家都被误导了 ， 这世上根本就没有所谓的“7nm光刻机” ， 这只是厂商为了宣传效果以此命名 。 7nm只是一种工艺的代号 ， 它和光刻机本身是不挂钩的 。 简单说 ， 如果用这台光刻机生产28nm ， 是不是应该叫28nm光刻机了 。分页标题#e#

并且 ， 武汉弘芯的这台ASML光刻机 ， 也并不是国内唯一 ， 中芯国际也有 ， 并且去年3月又从荷兰 ASML 进口了一台 。 这个“7nm光刻机” ， 其实是荷兰ASML第四代浸没式光刻机 ， 也就是DUV光刻机 ， 工艺极限可达到7nm 。
但并不是拥有了这个光刻机 ， 就可以生产7nm的芯片 。 下面简单说下 ， DUV光刻机使用波长为 193nm光源 ， 单次曝光的分辨率极限可以达到38nm 。 而EUV 光刻机使用13.5nm EUV 作为光源 ， 单次曝光的分辨率极限可以达到13nm 。

那么如何使用分辨率极限为38nm 的光刻机来实现7nm芯片呢 ， 这就要用到FinFET制程工艺 ， 进行双重曝光或多重曝光 。 台积电就曾DUV 光刻机造出7nm芯片 ， 这也就是为什么中芯国际研发的N+1工艺 ， 可以实现7nm芯片 。
DUV 光刻机可以造出7nm芯片 ， 这也是顶点 ， 但并不表明拥有了这个光刻机 ， 就能够造出7nm芯片 ， 关键是芯片制程工艺 。 这也就是为什么梁孟松带领2000多位工程师 ， 奋战三年 ， 才完成28nm到7nm五个世代的技术攻关！

用DUV光刻机生产7nm芯片 ， 代价大、良品低 ， 因此后来台积电改用EUV光刻机 。 要继续进行7nm制程 ， 就必须要有EUV光刻机 。 我国缺少的就是第五代EUV极紫外光刻机 ， 因此 ， 武汉弘芯的这台光刻机意义并不很大！

来源：(黑土地)

【】网址：/a/2021/0302/kd755266.html

标题：光刻机|千亿芯片骗局宣告结束！留下三点好处，其一是根本没有7nm光刻机