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光刻机被誉为工业皇冠上的明珠 ， 尤其是在硅基芯片领域 ， 其光芒最为耀眼 ， 尽管制造工艺迭代更新很快 ， 可光刻设备始终处于无可替代的地位 。
老美之所以敢以修改芯片规则的代价针对华为 ， 正是由于它手里握着EUV光刻机这把“利器” ， 并妄图凭此来遏制中国高科技的发展脚步 。

为了实现芯片自主 ， 突破光刻机这座“大山” ， 中科院等国内顶尖科研团队决定跑步入场 ， 并成立了专项攻关小组 。
在这种情况下 ， 能否研发出高端国产光刻机 ， 可以说聚焦了无数国人希冀的目光 。
然而 ， 美国科学家却表示 ， 即便给我们EUV光刻机的图纸 ， 我们短时间内也难以造出 。

事实也的确如此 ， 虽然ASML是能够量产EUV光刻机的唯一厂商 ， 可90%以上元器件都需要进口 ， 对我们而言 ， 若想实现光刻自主 ， 就需要先解决掉大约10万个元器件的进口问题 。
这是一道几乎无解的难题 。
不过需要强调的是 ， 围绕光刻设备发展到今天的硅基芯片 ， 其工艺已经逼近物理极限 ， 也就是摩尔定律 。 以最先进的台积电来看 ， 5nm工艺已经十分成熟 ， 据说3nm工艺也已完成流片 ， 明年便可量产 ， 但有关2nm、1nm工艺的芯片 ， 却从未有半点消息 。

台积电并非不想在3nm工艺的基础上再进一步 ， 何况半导体领域的竞争如此激烈 ， 其身后的三星时刻都准备着反超 。 之所以会停留在3nm工艺水平 ， 是因为再往下即便是造得出来 ， 良品率也难以保证 ， 而且芯片上集成电路的驱动功能很可能面临失效的局面 ， 这样的成本显然超出了商业范畴 ， 是任何企业都难以接受的 。
寻找新型半导体材料或者新一代芯片 ， 成了全球各大芯片企业的主要发展方向 。

在华为等国产科技企业被老美断供芯片之时 ， 工程院士张钹教授曾给出了这样的观点：我们需要选择新灯塔、新航道 。
与其一头扎进“南墙”碰得头破血流 ， 倒不如好好看看“墙”的周围有没有别的道路 。
科技的魅力在于创新 ， 而非模仿与守旧 。
在新航道上 ， 近日国防科技大学传出喜讯 ， 引起了美科技界的一片哗然：“钻研光刻机原来只是幌子 ， 中国科学家在芯片产业上早有布局” 。

消息显示 ， 国防科技大学已经研发出了一种新型的光量子芯片 ， 彻底完成了全球范围内量子理论技术到实践应用的转变 。
量子芯片被誉为半导体驱动的终极形态 ， 不仅传输效率快 ， 而且有着安全盾的美称 ， 要知道老美构陷华为正是以硅基芯片设备的安全为由 ， 倘若量子芯片完成替代 ， 就不会再有人信它的谎言 。
综合来看 ， 量子芯片的性能超硅基芯片十倍有余 ， 更关键的是 ， 国防科技大学在没有光刻机的前提下便完成了研发 ， 这意味着 ， 我们完全可以绕开光刻机 ， 将量子芯片作为未来的主攻方向 。

可惜的是 ， 量子芯片距离工艺完全成熟还有一段距离 ， 虽已完成研发 ， 但若想实现大规模量产商用 ， 还需要成本的综合计算与应用领域的广泛测试 。
量子芯片代表的是未来 ， 要知道 ， 我们之所以会在硅基芯片领域被“卡脖子” ， 就是由于没有扎实的基础技术 ， 起步较晚的事实无法改变 。 庆幸的是 ， 在量子领域 ， 我们已经迎头赶上 ， 并实现反超 。
【芯片|光刻机只是幌子？国防科大传出喜讯，或改变全球芯片格局】相信随着中国科学家们的努力和持续研发创新 ， 我们一定能建立科技自主的“护城河” ， 在即将到来的量子时代完成华为的逆转 ， 改变此前一直由西方主导的全球芯片格局！

来源：(长版小西服)

【】网址：/a/2021/0309/kd776458.html

标题：芯片|光刻机只是幌子？国防科大传出喜讯，或改变全球芯片格局