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这次中芯国际花12亿买到的应该是ASML的DUV深紫外光刻机 ， 它可以用来制造最高精度7nm的芯片 ， 我们熟悉的高通骁龙855、骁龙865处理器都是采用的7nm DUV工艺 。 不过目前中芯国际的技术只能实现14nm工艺 ， 10nm以下的制程仍然没有被解禁 。 至于5nm以下的极深紫外EUV光刻机 ， 短时间内还不可能卖给我们 。 不仅如此 ， 中芯即使可以生产14nm芯片 ， 也不能够将这些芯片卖给华为 ， 因为华为仍然处于被制裁的状态 。
虽然14nm在智能手机领域已经属于比较过时的工艺了 ， 但是它仍然可以广泛用在其它高科技领域 。 比如新能源汽车上的车载平板 ， 不需要太先进的工艺就能满足需求了 。 智能电视等对性能和功耗不敏感的设备也都可以继续使用14nm芯片 ，
而中芯之所以能够买到DUV光刻机 ， 一个很重要的原因就是国产光刻机已经开始公关14nm了 ， 西方继续实施技术封锁已经没有太大的意义 。 美国人这个时候同意中芯购买DUV光刻机 ， 主要目的就是为了不让国产芯片厂商自己搞出来10nm甚至7nm ， 要国产芯片继续依赖美国技术 。
【芯片|为了防止国产芯片突破10nm，ASML向中芯国际出售12亿美元光刻机设备】
但另一方面 ， 中芯能够使用成熟的ASML DUV光刻机也是有利的 ， 一方面可以解决目前国内科技行业芯片紧缺的燃眉之急 。 另一方面可以为国产芯片突破10nm工艺累积足够的技术经验 。 “造不如买”的亏我们已经吃过好几次 ， 不会再上当了 。
来源：(小吱说手机)
【】网址：/a/2021/0309/kd778062.html
标题：芯片|为了防止国产芯片突破10nm，ASML向中芯国际出售12亿美元光刻机设备
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