卧式扩散炉工作原理 _什么是扩散炉

卧式扩散炉工作原理卧式扩散炉工作原理是一系列的化学反应。
因为二氧化硅被广泛用于半导体元器件的保护层和钝化层，在含氧气的环境下，氧分子将通过一层边界层到达二氧化硅的表面，并与硅原子反应生成二氧化硅，与此同时，氧化剂扩散的方式通过二氧化硅与硅原子反应生成新的二氧化硅层，从而使得二氧化硅的膜不断生成增厚。
扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。
什么是扩散炉扩散炉是集成电路生产线前工序的重要工艺设备之一，它的主要用途是对半导体进行掺杂，即在高温条件下将掺杂材料扩散入硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。虽然某些工艺可以使用离子注入的方法进行掺杂，但是热扩散仍是最主要、最普遍的掺杂方法。硅的热氧化作用是使硅片表面在高温下与氧化剂发生反应，生长一层二氧化硅膜。氧化方法有干氧氧化和水汽氧化（含氢氧合成）两种，扩散炉是用这两种氧化方法制备氧化层的必备设备。扩散炉是半导体集成电路工艺的基础设备，它与半导体工艺互相依存、互相促进、共同发展。
扩散炉智能控制系统怎样用plc设计扩散炉智能控制系统设计重点有以下几个方面
总体来说，控制系统的选用，可以PLC+上位机，也可以直接PLC。
1）温度控制，一般采用智能温控仪来控温，扩散炉分为口、中、尾三段独立控温。温度点可以修正补偿。温控仪最好是通信的，这样便于集成控制。
2）功率加热，炉体采用合金炉丝，加热建议采用可控硅移相的方式。
3）气体控制，炉体中得通入比例的气体，这里需要用到MFC精确控温，可以模拟量控制，也可以选用通信方式的。
4）控制系统，必须有几十条工艺可以存储。每条工艺根据需要至少得有10步满足使用。运行过程中，需要根据客户设定的时间推移，程序跳步，动态给定口中尾温度，动态给定气体流量。
5）安全监测设计，口中尾温度超温巡检，切断电源等保护措施。历史事件记录追溯查询。
6) 辅助机构的设计，比如进舟机构。
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内热偶作用1.本实用新型太阳能电池生产技术领域，具体涉及一种用于立式扩散炉的内热偶装置。
背景技术：
2.在太阳能电池制造中，扩散工艺作为太阳能电池生产的核心步骤，主要是为了形成pn结，pn结质量对于太阳能电池的转换效率有决定性影响。扩散炉设备是一种高温热工类设备，包括垂直扩散炉和水平扩散炉两种类型。立式扩散炉设备是一种在高温条件下，通过一系列化学反应来对半导体晶圆进行掺杂的设备。立式扩散炉主要由控制系统、进出舟系统、炉体加热系统和气体控制系统等组成。相较于卧式扩散炉而言，立式扩散炉有更好的片内均匀性。
3.目前，市场上的扩散工艺主要有两种：磷扩散和硼扩散，工艺温度分别达到850℃和1050℃，高温会缩短热偶的使用寿命，更换频率会有所提高。在立式扩散炉中更换热偶相较于卧式扩散而言，最大的问题就是空间上的限制，一般而言，立式扩散炉本身的热偶管口在离地3m米以上，热偶的长度在3m以上，目前设备厂房高度一般在6m以下，因此传统方式的内热偶在垂直方向的插拔，都不是很方便，在空间受限的情况下，有时甚至根本无法实现在竖直方向上的热偶的插拔，既费时也费力。即使能实现也要付出大量的时间，对产能有较大影响。
4.内热偶在整个扩散工艺的反应过程中是属于温度控制部分，由于扩散工艺对于温度的敏感度非常高，内热偶的作用不言而喻。目前用于扩散的内热偶一般都是一体式内热偶，热电极、保护套和接线端之间都是通过焊接固定，通过在同一直线上分布的多个温度感应点来测量整个炉体的温度，对反应腔体的温度进行实时监测，并通过反馈调节来实现对于温度的稳定控制。一旦热偶上的某个部位出现问题，那么就需要将整个热偶取出，对其进行修复，很费时间，整个工艺也将无法继续进行，尤其对于立式扩散而言，拆装的操作上也存在诸多限制。因此，如何能更方便、快捷的更换立式扩散炉的内热偶是业内亟需解决的问题。
技术实现要素：
5.本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种结构紧凑、拆装简单、拆装空间小的用于立式扩散炉的内热偶装置。