绝缘栅双极型晶体管的相关实例

IGBT作为开关使用时,为使通态压降UcE低 , 通常选择为氏E值为10一15v,此情况下通态压降接近饱和值 。UGE值影响短路破坏耐量(时间),耐量值为微秒级,UG 。值增加,短路破坏耐量(时间)减少 。门极电阻R 。的取值影响开关时间,RG值大,开关时间增加,单个脉冲的开关损耗增加 。但RG值减小时,di/dt增大 , 可能会导劲GBT误导通 。R殖一般取几十欧至几百欧 。主要参数Ic为集电极额定最大直流电流;U(BocES为门极短路时的集一射极击穿电压;尸C为额定l日ey日onshonshuong]!x一ng}ing丈}guon绝缘栅双极型晶体管(insulatedgatebiPolartransistor,IG召T)一种场控自关断的电力电子器件,又称绝缘门极双极型晶体管 。此种晶体管在80年代迅速发展起来 。IGBT的等效电路、图形符号如图(a)所示,图(b)、(c)分别为其转移特性和输出特性 。IGBT的输人驱动级为N沟道增强型绝缘栅场效应晶体管MOSFET , 输出级为电力晶体管(GTR) , 形成达林顿晶体管电路结构 。因此IGBT兼有MOSFET高输人阻抗、快开关速度和GTR的高电流密度、低通态压降的优点,但IGBT的门极偏置(又称栅极偏置)对特啊性影响很大 。门极偏置IGBT的导通和关断是由门极电压控制的 。如图(b)所示,当门极电压UGE大于N沟道MOSFET的闭值电压(开启电压)UGE(th)时,MOSFET导通,从而给PNP管提供基极电流而使其导通;当门极电压小于氏E(th)啊时,MOSFET关断,PNP管无基极电流流过而截止 。如图( 。)所示,当IGBT导通时,工作在特性曲线电流上升区域,UGE增大时,UcE值减小 。的最大耗散功率;UcE(sat)为集一射极间的饱和压降;IcE(、 , 为门极短路时集电极最大关断电流;Rth为结壳间的最大热阻;T为最高工作温度 。发展表中列出了各代IGBT器件的典型特性参数 。IGBT发展非常迅速,正在向高频、高压、大电流以及降低器件的开关损耗和通态损耗方向发展 。已研制出电压高达RN任啊于二Go一』(a)它珑功勺(b)鲡电为50O0V,10DA/emZ流密度下UCE、 。认,E,鲡鲡2.SV左右的IGBT 。IGBT、功率MOSF-ET发展前景广阔,已成为中、小功率低压应用领域的主导器件 。由于IGBT特性参数优越 , ,预计2000年功率达IMVA的GTR和GTO逆变器,将被IGBT逆变器所替代 。UOE>陇E , 
IGBT在工作的时候的特点是什么IGBT 的开关作用是通过加正向栅极电压形成沟道,给 PNP 晶体管提供基极电流,使 IGBT 导通 。反之,加反向门极电压消除沟道,流过反向基极电流,使 IGBT 关断 。IGBT 的驱动方法和 MOSFET 基本相同,只需控制输入极 N 一沟道 MOSFET ,所以具有高输入阻抗特性 。
当 MOSFET 的沟道形成后 , 从 P+ 基极注入到 N 一层的空穴(少子) , 对 N 一层进行电导调制,减小 N 一层的电阻 , 使 IGBT 在高电压 时,也具有低的通态电压 。
IGBT 的工作特性包括静态和动态两类:
1 .静态特性 IGBT 的静态特性主要有伏安特性、转移特性和 开关特性 。
IGBT 的伏安特性是指以栅源电压 Ugs 为参变量时,漏极电流与 栅极电压之间的关系曲线 。输出漏极电流比受栅源电压 Ugs 的控 制,Ugs 越高, Id 越大 。它与 GTR 的输出特性相似.也可分为饱和 区 1 、放大区 2 和击穿特性 3 部分 。在截止状态下的 IGBT  , 正向电 压由 J2 结承担,反向电压由 J1 结承担 。如果无 N+ 缓冲区,则正反 向阻断电压可以做到同样水平,加入 N+ 缓冲区后,反向关断电压只 能达到几十伏水平,因此限制了 IGBT 的某些应用范围 。
【绝缘栅双极型晶体管的相关实例】
IGBT 的转移特性是指输出漏极电流 Id 与栅源电压 Ugs 之间的 关系曲线 。它与 MOSFET 的转移特性相同 , 当栅源电压小于开启电 压 Ugs(th) 时,IGBT 处于关断状态 。在 IGBT 导通后的大部分漏极电 流范围内,Id 与 Ugs 呈线性关系 。最高栅源电压受最大漏极电流限 制,其最佳值一般取为 15V 左右 。
IGBT 的开关特性是指漏极电流与漏源电压之间的关系 。IGBT 处于导通态时,由于它的 PNP 晶体管为宽基区晶体管,所以其 B 值 极低 。尽管等效电路为达林顿结构,但流过 MOSFET 的电流成为 IGBT 总电流的主要部分 。此时,通态电压 Uds(on) 可用下式表示
Uds(on) = Uj1 + Udr + IdRoh
式中 Uj1 —— JI 结的正向电压 , 其值为 0.7 ~ IV ;
Udr ——扩展电阻 Rdr 上的压降;
Roh ——沟道电阻 。
通态电流 Ids 可用下式表示:
Ids=(1+Bpnp)Imos
式中 Imos ——流过 MOSFET 的电流 。
由于 N+ 区存在电导调制效应 , 所以 IGBT 的通态压降?。?耐压 1000V 的 IGBT 通态压降为 2 ~ 3V。
IGBT 处于断态时,只有很小的泄漏电流存在 。
2 .动态特性 IGBT 在开通过程中 , 大部分时间是作为 MOSFET 来运行的,只是在漏源电压 Uds 下降过程后期,PNP 晶体 管由放大区至饱和,又增加了一段延迟时间 。td(on) 为开通延迟时间,tri 为电流上升时间 。实际应用中常给出的漏极电流开通时间 ton 即为 td (on) tri 之和 。漏源电压的下降时间由 tfe1 和 tfe2 组成,
IGBT 在关断过程中,漏极电流的波形变为两段 。因为 MOSFET 关断后 ,  PNP 晶体管的存储电荷难以迅速消除,造成漏极电流较长的尾部时间 ,  td(off) 为关断延迟时间 ,  trv 为电压 Uds(f) 的上升时间 。实际应用中常常给出的漏极电流的下降时间 Tf 由 t(f1) 和 t(f2) 两段组成,而漏极电流的关断时间
t(off)=td(off)+trv 十 t(f)
式中,td(off) 与 trv 之和又称为存储时间 。
IGBT工作特性
静态特性
IGBT 的静态特性主要有伏安特性、转移特性和开关特性 。IGBT 的伏安特性是指以栅源电压Ugs 为参变量时 , 漏极电流与栅极电压之间的关系曲线 。输出漏极电流比受栅源电压Ugs 的控制,Ugs 越高,Id 越大 。它与GTR 的输出特性相似.也可分为饱和区1 、放大区2 和击穿特性3 部分 。在截止状态下的IGBT,正向电压由J2 结承担,反向电压由J1结承担 。如果无N+ 缓冲区,则正反向阻断电压可以做到同样水平,加入N+缓冲区后 , 反向关断电压只能达到几十伏水平,因此限制了IGBT 的某些应用范围 。IGBT 的转移特性是指输出漏极电流Id 与栅源电压Ugs 之间的关系曲线 。它与MOSFET 的转移特性相同,当栅源电压小于开启电压Ugs(th) 时 , IGBT 处于关断状态 。在IGBT 导通后的大部分漏极电流范围内,Id 与Ugs呈线性关系 。最高栅源电压受最大漏极电流限制,其最佳值一般取为15V左右 。IGBT 的开关特性是指漏极电流与漏源电压之间的关系 。IGBT 处于导通态时,由于它的PNP 晶体管为宽基区晶体管,所以其B 值极低 。尽管等效电路为达林顿结构,但流过MOSFET 的电流成为IGBT 总电流的主要部分 。此时,通态电压Uds(on) 可用下式表示 Uds(on) = Uj1 + Udr + IdRoh 式中Uj1 —— JI 结的正向电压,其值为0.7 ~1V ;Udr ——扩展电阻Rdr 上的压降;Roh ——沟道电阻 。通态电流Ids 可用下式表示:Ids=(1+Bpnp)Imos 式中Imos ——流过MOSFET 的电流 。由于N+ 区存在电导调制效应,所以IGBT 的通态压降小 , 耐压1000V的IGBT 通态压降为2 ~ 3V。IGBT 处于断态时,只有很小的泄漏电流存在 。
动态特性
IGBT 在开通过程中,大部分时间是作为MOSFET 来运行的,只是在漏源电压Uds 下降过程后期 , PNP 晶体管由放大区至饱和 , 又增加了一段延迟时间 。td(on) 为开通延迟时间,tri 为电流上升时间 。实际应用中常给出的漏极电流开通时间ton 即为td(on)tri 之和 。漏源电压的下降时间由tfe1 和tfe2 组成 。IGBT的触发和关断要求给其栅极和基极之间加上正向电压和负向电压 , 栅极电压可由不同的驱动电路产生 。当选择这些驱动电路时,必须基于以下的参数来进行:器件关断偏置的要求、栅极电荷的要求、耐固性要求和电源的情况 。因为IGBT栅极- 发射极阻抗大 , 故可使用MOSFET驱动技术进行触发,不过由于IGBT的输入电容较MOSFET为大 , 故IGBT的关断偏压应该比许多MOSFET驱动电路提供的偏压更高 。IGBT在关断过程中,漏极电流的波形变为两段 。因为MOSFET关断后,PNP晶体管的存储电荷难以迅速消除,造成漏极电流较长的尾部时间,td(off)为关断延迟时间,trv为电压Uds(f)的上升时间 。实际应用中常常给出的漏极电流的下降时间Tf由图中的t(f1)和t(f2)两段组成 , 而漏极电流的关断时间t(off)=td(off)+trv十t(f)式中,td(off)与trv之和又称为存储时间 。IGBT的开关速度低于MOSFET,但明显高于GTR 。IGBT在关断时不需要负栅压来减少关断时间,但关断时间随栅极和发射极并联电阻的增加而增加 。IGBT的开启电压约3~4V , 和MOSFET相当 。IGBT导通时的饱和压降比MOSFET低而和GTR接近,饱和压降随栅极电压的增加而降低 。正式商用的IGBT器件的电压和电流容量还很有限,远远不能满足电力电子应用技术发展的需求;高压领域的许多应用中,要求器件的电压等级达到10KV以上,目前只能通过IGBT高压串联等技术来实现高压应用 。国外的一些厂家如瑞士ABB公司采用软穿通原则研制出了8KV的IGBT器件,德国的EUPEC生产的6500V/600A高压大功率IGBT器件已经获得实际应用,日本东芝也已涉足该领域 。与此同时,各大半导体生产厂商不断开发IGBT的高耐压、大电流、高速、低饱和压降、高可靠性、低成本技术,主要采用1um以下制作工艺,研制开发取得一些新进展 。