光刻胶|中企官宣好消息，正式入局EUV光刻胶，国产EUV迈出关键一步芯片|官宣

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芯片制造是一个庞大的系统性工程，仅仅掌握芯片制造技术是远远不够的，还需要半导体设备，材料等产业链的支持。就拿材料来说，光刻胶是芯片制造过程中必不可少的。芯片制程越高，需要用上的光刻胶材料也必须越好。
EUV光刻胶是最顶级的芯片制造化学材料，助力芯片制造商实现7nm ， 5nm等高端芯片的生产。可是高端光刻胶一直被日本给垄断，占据全球主导市场份额。
不过中企官宣好消息，正式入局EUV光刻胶，对其展开前期研发工作。中企都有哪些研发布局呢？若国产EUV光刻胶破局成功，有何意义？

国产EUV光刻胶研发开启征程对光刻胶有一定了解的人都知道，这种化学材料对芯片制造可以起到决定性作用。不仅能保护衬底基座，还具备抗腐蚀的性能作用。但是光刻胶也是有性能区分的。
根据光源波长的不同，大致分为五种光刻胶品类，分别为G线、I线、KrF、ArF、EUV光刻胶。最顶级的就是EUV光刻胶了，适用于极紫外光源。

台积电，三星要想生产出高端芯片， EUV光刻胶是重中之重。而台积电，三星采购的EUV光刻胶均出自日本。日本掌握全球光刻胶垄断级市场，东京应化、信越化学、JSR等日本厂商长期占据中低端，高端光刻胶市场。
在少数寡头的垄断下，各国想要获得EUV光刻胶，只能与日本厂商做交易。不过这样的情况可能在将来会发生改变，因为中企官宣好消息，也要入局EUV光刻胶了。
这家中企名为上海新阳，在5月22日的业绩说明会上，上海新阳表示现在已经开始对EUV光刻胶展开前期探索性基础研发。具体的研发布局包括EUV 光刻胶的基础理论、形成机理、性能观察、制备方法等。

从上海新阳透露的信息可以得知，国产EUV光刻胶研发开启征程了，尽管还处在前期探索性阶段，但任何技术的突破，产业进步都是从无到有，从有到更好的过程。上海新阳的入局，让国产EUV迈出了关键一步。
EUV看似遥不可及，关键的产业话语权，技术体系都掌握在ASML、东京应化、JSR这些厂商手中。可实际上，国内在EUV技术领域并非没有探索。
就比如清华大学研究出可用于EUV光源的技术成果，中科院宣布入局光刻机后，也展开了EUV有关人才的招聘。再加上这次上海新阳明确表示展开EUV光刻胶的前期研发工作，就说明这条路并不是鲜有人涉足。

越来越多的参与者迈上这条路，等前行者开辟出合适的道路后，建立起稳定的生态体系，一定会有更多的国产厂商紧随其后。
若国产EUV光刻胶破局成功，有何意义？EUV光刻胶事关高端芯片产业链的发展，全球能运用EUV光刻胶的芯片制造商并不少，未来形成的产业规模，市场需求还会更大。只是以目前的EUV产业状况，分布太集中了。
哪怕有多家厂商都掌握高端芯片制造技术，也有EUV光刻胶的消费需求，也和国内民众期待中的国产EUV状况有一定的差别。

不过也不能过于绝对，毕竟未来的事情谁也说不准。现在国产EUV光刻胶的研发已经起步，若将来破局成功，有何意义？
首先很可能会改变日本光刻胶一家独大的局面，让产业链更加平均发展。
日本JSR ，东京应化是主要的EUV光刻胶参与者，市场份额比其它厂商还要高出不少。制备方法，技术积累都十分成熟。更何况这些厂商都有几十年，半个世纪的发展历史，时间带来的技术沉淀效果不可小觑。
市场呈现一边倒的情况，可如果国产EUV光刻胶破冰成功，这样一家独大的局面将被打破，产业链也能实现平均发展，对市场而言都有深远意义。

其次让选择性多样化，厂商与客户的价格商议有更大的空间，不再由日企掌握定价权。