【光刻机|我国只能生产90纳米的光刻机，是哪个环节遇到了瓶颈？||上海微电子|】_

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芯片是目前地球上最难制造的一个产品之一，在芯片制造过程当中，需要用到各种设备，比如光刻机，蚀刻机，薄膜生产设备，抛光机和清洗器剂，离子注入设备，扩散炉等等。
这里面技术难度最大的就是光刻机，光刻机的技术难度到底有多大？这里没法用三言两语来形容，我们可以打一个很简单的比方，就是要将一部莎士比亚全集（大概是200万字）刻在一个小小的头发上，大家自己想象一下难度有多大。
正因为光刻机技术难度非常大，目前全球真正掌握光刻机技术的国家很少，真正掌握高端光刻机技术的国家，更是只有荷兰ASML一个企业，目前他们垄断了全球14纳米以上的光刻机。
光刻机|我国只能生产90纳米的光刻机，是哪个环节遇到了瓶颈？
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而虽然我国也有企业具备制造光刻机的实力，但是目前我国真正量产的光刻机已经长期停留在90纳米， 2007年我国90纳米光刻机取得技术突破之后，至今为止我国仍然没有取得太大的进步，虽然目前上海微电子已经成功研发出28纳米光刻机，但要真正量产也需要等到2022年左右。
那为什么上海微电子长期停滞在90纳米光刻机没法取得太大的进步呢？是什么环节阻碍了上海微电子的进步？
事实上光刻机是一个复杂的工程，单靠一个企业是很难研制成功的，对于上海微电子来说，虽然他们是制造光刻机的，但很多核心设备都需要从外部采购，而在光刻机的一些核心零部件上，目前很多国家都对我国禁止出口，很多核心设备都需要我国从0开始研发。
目前一个高端光刻机有数万个零部件，这些零部件每一个都有很高的技术要求，甚至需要反反复复的打磨才符合要求，正因为如此，一旦某一个供应商零部件跟不上，就会导致上海微电子整体光刻机的进度跟不上。
而目前光刻机有一些核心零部件的技术难度是非常大的，我国并没有掌握，这里面难度最大的就是光学系统。
光刻机|我国只能生产90纳米的光刻机，是哪个环节遇到了瓶颈？
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光刻机的原理就是通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩膜，并经物镜补偿各种光学误差，然后将线路图成比例缩小后映射到硅片上，从而达到光刻的目的。
在这个过程当中，光源就相当于雕刻刀，光源的精度以及稳定直接决定了芯片的光刻精度，光源的波长越小其雕刻的精度越细。
但想要获取波长短而稳定的光源难度是非常大的，这里面不仅需要有稳定的光源设备提供光源，另外在光源映射过程当中，需要经过几十片镜片反复的按图比例缩小，这里面对镜片的光滑度以及透光度要求都非常高。
而目前真正能够生产这种高质量镜片的，只有德国的蔡司一家，他们都是经过反反复复打磨，而且都是拥有几十年甚至上百年的技术积累，才能够生产出这种镜片。
目前我国没有任何一家企业能够打造出类似德国蔡司这种镜片，这意味着如果德国蔡司不出口这种高端的镜片，那么我们的光刻机短期之内就很难实现技术上的突破。
而想要依靠我国的企业去打造这种高端镜片，短期之内难度太大，没有长期的技术积累是很难做到的，要知道德国蔡司之所以能够生长出这种镜片，他们都是几代人代代相传才做到的。
光刻机|我国只能生产90纳米的光刻机，是哪个环节遇到了瓶颈？
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除此之外，光刻机还需要有功率高而且光源稳定的光源设备，这样才能确保光线波长的稳定，一旦光源有一点点的误差，就有可能导致波长出现误差，而目前真正掌握这种高端光源设备的只有美国的crymer 。

稿源：(天蝎金融)

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标题：光刻机|我国只能生产90纳米的光刻机，是哪个环节遇到了瓶颈？

傻大方

光刻机|我国只能生产90纳米的光刻机，是哪个环节遇到了瓶颈？

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