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专利|苹果新iPhone外观曝光：全面屏 屏下指纹

时间：2021-03-06 11:30      


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近日 ， 苹果申请了最新的专利 ， 列出了一个将光线检测层嵌入显示屏堆栈的系统 。 与光传感系统相关的光传感器可以分布在显示屏活动显示区域周围或内部 。 简单来说 ， 这就是之前盛传的屏下Touch ID ， 这一专利意在解决刘海 ， iPhone也将全面进入到全面屏时代 。
【专利|苹果新iPhone外观曝光：全面屏 屏下指纹】系统本身可以包括集成在像素区域之间或发光显示器周边的光电二极管或太阳能电池阵列 。 该系统可以使用来自光电二极管或太阳能电池的电信号来感应颜色 ， 该专利的大部分描述都集中在环境光传感器上 。
而从最近最新曝光的外观来看 ， 今年的新iPhone 2021将把刘海做的更小 ， 而在明年的iPhone中有望搭载最新的Touch ID专利以及屏下指纹解锁 ， 彻底摆脱使用多年的刘海屏 。
专利|苹果新iPhone外观曝光：全面屏 屏下指纹
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    来源：(中关村在线)

    【】网址：/a/2021/0306/kd769220.html

    标题：专利|苹果新iPhone外观曝光：全面屏 屏下指纹


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