图9.9化学气相沉积TiN的设备原理 2 2物理气相沉积物理气相沉积 物理气相沉积(PVD)技术是指在真空条件下 ， 用物理的方 法 ， 将材料汽化成原子、分子或使其电离成离子 ， 并通过气相 过程 ， 在材料或工件表面沉积一层具有某些特殊性能的薄膜技 术 。
（1）物理气相沉积技术的工艺过程） 。

25、物理气相沉积技术的工艺过程 物理气相沉积技术所有方法的工艺过程均可以分为三步：第一 步是成膜材料的汽化 ， 即成膜材料的蒸发、升华、被溅射、分解 ， 也 就是成膜材料的源；第二步为成膜原子、分子或离子从源到基片的迁 移过程 ， 在这一过程中粒子间可能发生碰撞 ， 产生离化、复合、反应、 能量的变化和运动方向的改变等一系列复杂过程；第三步是成膜原子 在基片表面的吸附、堆集、形核和长大成膜 。
（2 2）真空蒸镀）真空蒸镀 真空蒸镀是在真空条件下 ， 加热成膜材料 ， 使其蒸发汽化成原 子或分子 ， 并沉积到工件表面形成薄膜的方法 。
（3 3）溅射镀膜）溅射镀膜 溅射镀膜是在一定的真空条件下 ， 采用辉光放电技术 ， 将氩气 电离产生 。

26、氩离子 ， 氩离子在电场力的作用下加速轰击阴极 ， 使阴极材 料被溅射下来沉积到工件表面形成膜层的方法 。
.图9.10真空蒸镀设备示 意 图9.11真空蒸镀基本工艺流程 图9.12溅射镀膜基本工艺流程 9.3.4 TD9.3.4 TD处理技术处理技术 TD处理（Toyota Diffusion Coating Process）技术是由 日本丰田中央研究所开发的 ， 因此也称为丰田扩散法 ， 是用熔 盐浸镀法、电解法及粉末法进行表面强化处理技术的总称 。
过 去有些文献将TD处理称为渗金属处理 ， 而实际应用最为广泛的 是熔化浸镀法(或称熔盐浸渍法、盐浴沉积法)在模具表面形成 VC, NbC, Cr23C6-Cr7C3 。

27、等碳化物超硬层的方法 。
经TD法处理的 模具表面形成515m厚的VC等薄膜 ， 可显著提高模具表面的硬 度、耐磨性、抗粘着性和耐蚀性等 ， 从而大大提高了模具的使 用寿命 。
TD处理已在各类冲模、锻模、拉丝模等中得到了应用 。
但 是 ， 由于TD处理的温度高达1000 ， 所以材质受到限制 。
同时 ，因变形较大 ， 不适合高精度模具 ， 而且VC薄膜的耐热、耐氧化、 耐烧结性都比氮化物差 。
1设备及盐浴成分 TD处理设备非常简单 ， 即普通外热式坩埚盐浴炉 。
2TD处理工艺 将硼砂放入一个耐热钢制的坩埚中加热熔化至8001200 ， 然后加 入组成盐浴的其他物质 ， ,如碳化物形成粉末 ， 如钛、钡、铌、铬 ， 再 将工件浸入盐浴中保温1l0h ， 加入元素就会扩散至工作表面并与钢中 的碳起反应 ， 形成由碳化物构成的表面涂层 。
3TD涂层的质量控制 （1）基体材料 （2）防止变形 由于TD法处理温度接近于钢的淬火温度 ， 对于精度要求严格的工 件 ， 要特别注意防止变形 。
4TD涂层的性能 TD处理获得碳化物层的硬度明显高于淬火硬度、镀铬或渗氮的硬度 。
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标题：模具|模具加工9热处理及表面强化技术( 五 )