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【光刻机|EUV光刻机有望达到中国工厂，芯片巨头正式表态了】

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要想生产制造芯片，除了要有先进的制造技术外，还需要有先进的设备，尤其是光刻机，其是生产制造芯片的必要设备。
就目前而言，光刻机技术最先进的厂商是ASML ，其研发制造的DUV光刻机和EUV光刻机几乎占领了中高端市场。
尤其是EUV光刻机，目前只有ASML能够研发制造，而该光刻机又是生产制造7nm以下芯片的必要设备。
数据显示， EUV光刻机目前总出货量才100多台，由于产能问题， ASML还积压了几十亿欧元的EUV光刻订单。
再加上， EUV光刻机的技术过于先进， ASML无法自由出货EUV光刻机，尽管ASML一直都在争取，但依旧没有实现。
日前， ASML方面再次重申，光刻机出货量翻倍，但售价并没有上涨，另外， DUV光刻机正常出货，而EUV光刻机在没有许可的情况下是不能自由出货的。
但没有想到的是，美在芯片方面多次修改规则后，其又对ASML的EUV光刻机作出了新限制。
最新的消息称， EUV光刻机不仅不能自由出货，也不允许出货安装到外企中国分厂。
然而，这一消息的出现，让全球主要芯片企业大外意外，因为三星、SK以及台积电等芯片企业都在中国有很多分厂。
全球缺芯后，三星、台积电以及SK不仅积极扩大产能，还筹备在中国建设更多新工厂，再加上工艺升级，自然需要大量的EUV光刻机。
如今， ASML的EUV光刻机无法出货安装到外企中国厂商，这显然不利于三星、SK等芯片企业在中国分厂扩产和提高工艺。
在这样的情况，芯片巨头SK正式表态了，正在争取为中国工厂引进EUV光刻机。
另外， SK CEO李锡熙表示，正与美方合作，进展良好。 EUV光刻技术已经在韩国本土的DRAM产线上应用，中国工厂还有充足的时间供斡旋沟通。
这意味着EUV光刻机有望达到中国工厂，一旦SK成功引进EUV光刻机，这将促使更多先进制程芯片在中国工厂生产制造。
据了解， SK之所以努力争取让EUV光刻机出货安装到中国分厂，主要有三点原因。
首先， SK是全球数一数二的储存芯片制造商，其生产制造了大量的储存芯片，像DRAM ，而SK大量的分厂建在中国，产能几乎占SK全部产能的一半。
要知道，仅无锡工厂就生产制造了大约15%的芯片，这意味着SK不将EUV光刻机引进到中国分厂，其就无法实现提升产能等。
其次，储存芯片工艺大升级。
EUV光刻机最初主要是用于生产制造手机CPU等芯片，但随着需求的增加，越来越多的储存芯片厂商也开始用EUV光刻机进行生产。
数据显示，三星、美光以及SK等芯片企业都开始用EUV工艺生产制造第四代储存芯片，而SK采用的10nm的EUV光刻机。
相比手机CPU等芯片而言，储存芯片的生产线需要更多EUV光刻机，原因是储存芯片的EUV应用层从1提升到5 ，平均每条生产线需要2台EUV光刻机。
这意味着SK倘若无法将EUV光刻机引进中国分厂，就无法生产制造更多第四代储存芯片。
最后，为了节约成本。
SK等芯片巨头有大量的工厂在中国，倘若无法将EUV光刻机引进中国分厂，就意味着其需要在其它地方重新规划建设新工厂。
要知道，新建工厂比工厂升级投入的成本大很多，新建工厂动辄都是十几亿美元的投资，甚至上百亿，关键是时间周期长。
也正是因为以上三点，芯片巨头SK才表态，将努力争取引进EUV光刻机到中国分厂。对此，你们怎么看，欢迎留言、点赞、分享。