在太阳电池表面阵列刻蚀液方面也开发了新产品 ， 以替代此前的“SUN-X”和“NAOTEX”产品 。
与老产品相比 ， 新的刻蚀液可以提升表面阵列的均匀性并降低对阳光的反射率 。
目前已经开始在中国大陆和台湾地区的太阳电池厂商中进行样品认证工作 。
除此之外 ， 正在开发LED蓝宝石基板清洗液 ， 用于改善蓝宝石抛光片表面质量的碱性清洗液已经开始向中国大陆和台湾地区的工厂提供样品 ， 并得到了良好的评测结果 ， 今后将不断扩大销量 。
正在开发的产品还包括用于高k介质和金属栅极刻蚀的新型药液 。
今后 ， 针对各种新制程和新材料 ， 还将不断提出新型产品的开发方案 。
Jxf46于2013年5月编译自日本“半导体产业新闻”第2011号 。

来源：(未知)

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标题：半导体|半导体IC清洗液发展现状( 四 )