在现有光波导参数测量仪的基础上 ， 克服棱镜折射率的限制 ， 我们介绍一种测量薄膜厚度和折射率的新方法 。
此方法不受棱镜折射率的限制 ， 操作简单 。
具体是测 。

12、量偏振光反射率进而求出薄膜厚度和折射率的方法 。
（6）偏振光反射法（PRTTI）偏振光反射法采用入射光以不同入射角投射到薄膜样品表面同一点或位置 ， 反射光束的强度由光电探测器接收 ， 再与入射光束光强比较 ， 计算出各光束的反射率 ， 最后与理论公式拟合得到待测薄膜的光学参数 。
2几种主要测量方法的比较比较测量薄膜厚度及折射率等参数的多种光学方法 ， 这些方法或技术都存在各自的优点及不足之处 ， 测量薄膜的类型和参数测量范围有一定的限制：如棱镜耦合法（也称光波导法）尽管测量薄膜的折射率精度很高 ， 但有一定的测量薄膜折射率的范围 ， 一般小于棱镜的折射率 ， 且对于200nm以下厚度的薄膜难以适用；干涉法的测量精度不高 ， 光谱法需要 。

13、至少两次测量、结果不稳定等；采用测量多角度偏振光反射率来确定薄膜参数的方法 ， 发明适用于多层膜及消光膜的测量 ， 特别适用于各向异性膜 ， 测量过程无损样品表面 ， 速度快 ， 易于实现薄膜样品的自动测量 ， 测量精度高 ， 范围大 ， 测量装置光路简单 ， 所需元件少 ， 调节方便 。
本论文课题研究方法概况1989年日本的Tami Kihara和Kiyoshi Yokomori首次提出通过测量薄膜的反射率可以同时求解出薄膜的厚度和折射率 。
具体方法是在角度处分别测量薄膜的反射率和,可以求解出若干组薄膜的参数 ， 其中有一组是正确的 。
在角度处再次分别测量薄膜的反射率和 ， 同样可以求解出若干组薄膜参数 。
两次求出的解中肯定有一组是重合或者是接近 。

14、重合的 ， 这一组就是正确的薄膜参数 。
1992年 ， Tami Kihara和Kiyoshi Yokomori又提出只用一种S偏振光就可以求解出薄膜的参数 。
具体方法是在角度处测量出 ， 在处测量出 ， 根据两点的测量值可求解出若干组薄膜参数 。
为了确定正确的薄膜参数 ， 在测量出 。
再根据求解出若干组薄膜参数值分别计算出对应处的反射率 ， 与测量值比较 ， 接近重合的一组即为正确的薄膜参数 。
这种方法主要应用于全息材料的薄膜厚度和折射率的测量 。
例如西班牙的Augusto Belendez, Tarsicio Belendez等人用这种方法测量出卤化银膜的折射率和厚度 。
国内 ， 相关可查文献较少 ， 只有大连民族学院机电信息工程系的宋敏 。

15、教授 ， 2003年在她的文章利用光学方法测量薄膜厚度的研究中首次介绍了这种研究方法 ， 翻译为激光反射法 。
在此我们更名为偏振光反射法 。
本论文主要内容及安排本论文介绍了偏振光反射法确定薄膜光学参数基本理论 ， 用反射法模拟了薄膜样品的反射率曲线 ， 最小二乘法优化法 ， 对镀制在不透明和透明平行基底上单层膜样品的透射率曲线进行拟合 ， 通过计算获得相应的光学参数 。
论文有关结果可为设计和研制相应的光学薄膜元件提供参考 。
全文共分五章:在第一章中 ， 简单介绍了薄膜技术的发展及应用 ， 讨论了几种确定薄膜厚度和光学常数的常用方法 ， 在此基础上 ， 明确了本论文研究背景、目的及意义 ， 并对论文主要内容及安排作了介绍 。
在第二章中 ， 给出了确定均 。

16、匀薄膜光学常数的基本理论 。
利用反射光测量薄膜的光学常数(薄膜厚度d ， 折射率n) ， 对镀制在硅基底上的单层二氧化硅薄膜、镀制在玻璃基底上的单层二氧化硅薄膜的光学常数进行了优化计算 ， 给出了优化结果 ， 并作了分析讨论 。
在第三章中 ， 利用透射率包络线法 ， 根据样品透射率曲线的极值点 ， 建立了针对具有吸收的薄膜的光学常数确定的基本理论 。
给出了方法原理 ， 并编制了计算机模拟程序 。
在此基础上 ， 利用单纯形优化算法 ， 对镀制在z几(高折射率玻璃)的单层Yb凡薄膜、HFf薄膜 ， 镀制在510:的单层Pb几薄膜和镀制在A12O3基底上的单层孔F3薄膜的光学常数进行了优化计算 ， 并对理论与实验结果进行了比较分析 。
在第四章中 ， 介绍了两种 。

17、确定非均匀薄膜光学常数的基本理论 ， 从而为以后进一步开展研究工作奠定基础 。
在第五章中 ， 对全论文的工作进行了总结 ， 并指出进一步需要开展的工作 。
单层薄膜的多光束干涉原理多光束干涉示意图入射光波在界面1处反射 ， 光波的剩余部分进入膜层内 ， 然后 ， 在界面1和界面2相继反射 ， 每次反射都有一部分光波透射过相应的界面 。

稿源：(未知)

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标题：偏振光|偏振光反射法测量薄膜厚度和折射率的研究1( 三 )