， 具有很高硬度 ， 适用于淬火合金钢 。
机械抛光在抛光机上进行 ， 可分为粗抛和精抛两个步骤 。
由电动机带动的机 。

7、械抛光在抛光机上进行 ， 可分为粗抛和精抛两个步骤 。
由电动机带动的 水平抛光盘转速一般为水平抛光盘转速一般为300500转分 。
粗抛时 ， 转速高一些 ， 精抛或抛转分 。
粗抛时 ， 转速高一些 ， 精抛或抛 软材料时 ， 转速要低些 。
抛光盘上铺以不同材料的抛光布 。
粗抛时常用帆软材料时 ， 转速要低些 。
抛光盘上铺以不同材料的抛光布 。
粗抛时常用帆 布或粗呢 ， 精抛时常用绒布、细呢或丝绸等 。
布或粗呢 ， 精抛时常用绒布、细呢或丝绸等 。
抛光机使用方法与抛光机使用方法与 注意事项注意事项 开机前 ， 检查并放好抛光布 ， 开机前 ， 检查并放好抛光布 ，压布圈、环形盖 。
压布圈、环形盖 。
按抛光机开关面版上的指示方按抛光机开关面版上的指示方 向 ， 打开 。

8、开关或按钮 ， 向 ， 打开开关或按钮 ，抛光盘转动平稳后进行抛光抛光盘转动平稳后进行抛光 抛光时 ， 头要抬高 ， 以防样品抛光时 ， 头要抬高 ， 以防样品 飞出伤人 。
飞出伤人 。
注意安全 。
注意安全 。
抛光试样的磨面应均匀、平正地压在抛光试样的磨面应均匀、平正地压在 旋转的抛光盘上 ， 并沿盘的半径方向旋转的抛光盘上 ， 并沿盘的半径方向 从中心到边缘作往复移动 。
压力不宜从中心到边缘作往复移动 。
压力不宜 过大 ， 抛光时间也不宜过长 ， 一般约过大 ， 抛光时间也不宜过长 ， 一般约3 5分钟 。
当磨痕全部消除而呈现镜面分钟 。
当磨痕全部消除而呈现镜面 时 ， 停止抛光 。
时 ， 停止抛光 。
抛光方法抛光方法 选择抛光粉选择抛光粉 配制抛光溶液 ， 比例 。

9、大约为配制抛光溶液 ， 比例大约为1015% 。
打开抛光机开关或按钮 ， 打开抛光机开关或按钮 ，手握紧样品放在盘半径约一般处抛光 。
手握紧样品放在盘半径约一般处抛光 。
边抛光边加入少量的抛光液 。
边抛光边加入少量的抛光液 。
注意若抛光液浓度不均匀 ， 振动瓶子 ， 数秒后加注意若抛光液浓度不均匀 ， 振动瓶子 ， 数秒后加 入 。
入 。
一般的材料用一般的材料用Cr203绿粉、帆布粗抛光即可 。
绿粉、帆布粗抛光即可 。
特殊样品要用特殊样品要用Fe2O3红粉、丝绒细抛光 。
红粉、丝绒细抛光 。
样品表面抛好后 ， 光亮如镜 ， 干净干燥可腐蚀 。
样品表面抛好后 ， 光亮如镜 ， 干净干燥可腐蚀 。
否则重抛光或用水冲洗 ， 用酒精冲洗 ， 吹干腐蚀 。
否则重抛 。

10、光或用水冲洗 ， 用酒精冲洗 ， 吹干腐蚀 。
腐蚀腐蚀 化学腐蚀化学腐蚀 电解腐蚀电解腐蚀 恒电位腐蚀等恒电位腐蚀等 除观察试祥中某些非金属夹杂物或铸铁中的石墨等情况外 ， 经抛光后除观察试祥中某些非金属夹杂物或铸铁中的石墨等情况外 ， 经抛光后 (化学抛光除外化学抛光除外)的试样磨面 ， 必须用浸蚀剂进行的试样磨面 ， 必须用浸蚀剂进行“浸蚀浸蚀” ， 以清楚地 ， 以清楚地 显示其显微组织 。
显示其显微组织 。
化学腐蚀的原理化学腐蚀的原理 纯金属或单相均匀的固溶体纯金属或单相均匀的固溶体 化学腐蚀方式化学腐蚀方式 两相组织化学腐蚀方式两相组织化学腐蚀方式 浸蚀效果 、铁素体之晶界组织观察 腐蚀后平面 腐蚀后倾斜 浸蚀效果、 。

11、铁素体之晶界组织观察 单相均匀固溶体浸蚀 示意图 纯金属或单相金属的浸蚀是一个化学溶解过程 。
晶界处由于原子排列混乱纯金属或单相金属的浸蚀是一个化学溶解过程 。
晶界处由于原子排列混乱， 且能量较高 ， 所以易受浸蚀而呈现凹沟 。
各个晶粒由于原子排列位向不 ， 且能量较高 ， 所以易受浸蚀而呈现凹沟 。
各个晶粒由于原子排列位向不 同 ， 受浸蚀程度也不同 。
因此 ， 在垂直光线照射下 ， 各部位反射进入物镜同 ， 受浸蚀程度也不同 。
因此 ， 在垂直光线照射下 ， 各部位反射进入物镜 的光线不同 ， 从而显示出晶界及明暗不同的晶粒 。
的光线不同 ， 从而显示出晶界及明暗不同的晶粒 。
浸蚀效果 、层片状珠光体组织 浸蚀效果 、层片状珠光体组织 1渗碳体。

12、2铁素体 2 1 两相组织浸蚀示意图 两相或两相以上合金的浸蚀则是一个电化学腐蚀过程 。

稿源：(未知)

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标题：实验6|实验6 材料试样的制备( 二 )