表面 。
Company Logo COMPANY LOGO Company Logo 计算机控制抛光技术加工流程图 COMPANY LOGO Part4.直径直径76.2 mm非球面数控加工工艺非球面数控加工工艺 v将利用将利用 OPTECH 非球面数控机床加工直径为非球面数控机床加工直径为 76.2 mm ， R 为 125.2 mm ， K=0.475 ， d=8 0.1 ， A=5.35741e-8 ， B=-2.846 56e-11 ，C=4.16788e-14 ， D=-2.547 51e-1 。

20、7 ， 材料 ， 材料 为为K9的非球面透镜 。
的非球面透镜 。
Company Logo COMPANY LOGO v非球面加工工艺流程如图所示非球面加工工艺流程如图所示 Company Logo 图3 工艺流程图 COMPANY LOGO4.1预抛光工艺预抛光工艺 v零件经铣磨成型后 ， 表面留有金刚石砂轮铣磨痕迹 ， 零件经铣磨成型后 ， 表面留有金刚石砂轮铣磨痕迹 ，要通过抛光过程将痕迹去除 。
采用面积较小的抛光要通过抛光过程将痕迹去除 。
采用面积较小的抛光 盘 ， 能够跟踪工件面形的变化趋势 ， 更好地修正局盘 ， 能够跟踪工件面形的变化趋势 ， 更好地修正局 部误差 ， 在短时间内就能使工件的面形精度达到要部误差 ， 在短时间内就能 。

21、使工件的面形精度达到要 求 ， 但是由于它产生比较明显的表面波纹度 ， 从而求 ， 但是由于它产生比较明显的表面波纹度 ， 从而 导致表面中高频误差 ， 元件产生高级像差 。
为了避导致表面中高频误差 ， 元件产生高级像差 。
为了避 免这种中高频误差 ， 首先对零件进行弹性抛光盘预免这种中高频误差 ， 首先对零件进行弹性抛光盘预 抛光 。
抛光 。
v预抛光过程中 ， 工件轴、工具轴转速分别为预抛光过程中 ， 工件轴、工具轴转速分别为150 rpm 和和450rpm， 摆角 ， 摆角 21.7时 ， 抛光时 ， 抛光 15 min ， 工件表面的铣磨痕迹全部被去除掉 。
抛光液 ， 工件表面的铣磨痕迹全部被去除掉 。
抛光液 温度调整到温度调整到 27 时 ， 材料去除量最大 。

22、 ， 整个表面时 ， 材料去除量最大 ， 整个表面 能够被快速抛亮 。
能够被快速抛亮 。
Company Logo COMPANY LOGO v非球面加工工艺流程如图所示非球面加工工艺流程如图所示 Company Logo 图3 工艺流程图 COMPANY LOGO 4.2非球面数控反馈铣磨抛光工艺非球面数控反馈铣磨抛光工艺 为解决弹性抛光盘严重破坏面形精度的问题 ， 为解决弹性抛光盘严重破坏面形精度的问题 ，现将检测曲线反馈到铣磨机中 ， 第二次铣磨非球现将检测曲线反馈到铣磨机中 ， 第二次铣磨非球 面 ， 在此过程中引入补偿量 ， 补偿掉由抛光引起的面 ， 在此过程中引入补偿量 ， 补偿掉由抛光引起的 面形误差 。
即在铣磨过程中刻意使 。

23、其具有与之前面形误差 。
即在铣磨过程中刻意使其具有与之前 测得的误差相反的面形误差 ， 在抛光去除量大的地测得的误差相反的面形误差 ， 在抛光去除量大的地 方磨削量减小 ， 而抛光去除量小的地方则增大 。
方磨削量减小 ， 而抛光去除量小的地方则增大 。
Company Logo COMPANY LOGO v非球面加工工艺流程如图所示非球面加工工艺流程如图所示 Company Logo 图3 工艺流程图 COMPANY LOGO 4.3非球面数控小磨头修抛工艺非球面数控小磨头修抛工艺 v小抛头修抛过程中 ， 表面去除量参数之间的关系小抛头修抛过程中 ， 表面去除量参数之间的关系 可以由可以由 Preston 模型给出 ， 在磨头 。

24、与工件间相模型给出 ， 在磨头与工件间相 互作用的小区域内 ， 磨头对工件表面材料的去除互作用的小区域内 ， 磨头对工件表面材料的去除 量与压力、相对速度以及驻留时间成正比 。
根据量与压力、相对速度以及驻留时间成正比 。
根据 轮廓仪测得的预抛光检测曲线 ， 调整工件轴转速轮廓仪测得的预抛光检测曲线 ， 调整工件轴转速 和工具轴转速分别为和工具轴转速分别为 500 rpm 和和 2 500 rpm ，其他条件不变 ， 进行几次修正抛光其他条件不变 ， 进行几次修正抛光,多次重复修磨多次重复修磨 元件 ， 表面面形精度逐步收敛 。
元件 ， 表面面形精度逐步收敛 。
Company Logo COMPANY LOGO Part5 数控非球面加 。

25、工的影响因素数控非球面加工的影响因素 5.1粗磨的影响因素粗磨的影响因素 金刚石磨具的粒度金刚石磨具的粒度 、浓度 ， 磨轮的硬度 ， 、浓度 ， 磨轮的硬度 ，铣磨深度铣磨深度 5.2精磨的影响因素精磨的影响因素 金刚石颗粒金刚石颗粒 、结合剂、结合剂 、玻璃、玻璃 5.3 抛光的影响因素抛光的影响因素 （1）抛光介质水对玻璃的侵蚀作用）抛光介质水对玻璃的侵蚀作用 （2）光学玻璃化学稳定性与抛光速度的关系）光学玻璃化学稳定性与抛光速度的关系 （3）抛光液）抛光液PH值的影响值的影响 （4）添加剂对抛光过程的影响）添加剂对抛光过程的影响 （5）抛光模的作用）抛光模的作用 Company Logo COMP 。

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标题：数控|数控非球面加工技术( 四 )